[发明专利]一种水质测量仪表防护装置在审

专利信息
申请号: 202010103165.7 申请日: 2020-02-19
公开(公告)号: CN111257530A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 杭州希玛诺光电技术股份有限公司
主分类号: G01N33/18 分类号: G01N33/18;G01F23/00;B08B3/08;B08B13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311121 浙江省杭州市余杭区*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 水质 测量 仪表 防护 装置
【说明书】:

发明公开了一种水质测量仪表防护装置,属于环境监测领域。本发明的水质测量仪表防护装置,包括水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置,水位自适应测量保护装置用于在不同水位条件下对测量仪表进行保护,为其提供安全稳定的测量环境,水下旋转保洁装置用于通过旋转减少水中杂物挂壁,保持测量仪表清洁,测量探头维护装置用于测量仪表中测量探头的自动维护,保证测量准确度并防止仪器损坏。水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置组装于伸缩支架上,通过螺旋电缆进行电力和信号连接,采用一体化的安装方式,所有水下装置采用独立全密封防水结构。该水质测量仪表防护装置可以适应城市地下管网复杂水体条件和安装环境,对水质测量仪表进行综合防护。

技术领域

本发明涉及一种仪表防护装置,特别是一种适用于城市地下管网水质监测的水质测量仪表防护装置,属于环境监测领域。

背景技术

所述水质测量仪表防护装置被国内外广泛用于江河、湖库、海洋、城市地下管网等地表水区域水质测量仪表的防护。

由于水质测量过程中水体条件和测量环境复杂多变,水质测量装置的设计和安装方式对测量的准确性和施工维护的工作量有极大影响。其中城市地下管网水体条件尤为复杂,其水质测量过程经常面临淤泥遮挡、水中杂物挂壁、通讯不佳、水量不稳定导致搁浅或漫灌,以及操作空间狭小等情况;常用的测量装置无法同时解决以上技术难题,因此往往出现测量结果不准确、信息丢失、仪表损坏、施工困难、维护复杂等一系列问题。常见的应对方法是增加人工维护工作量,但由于城市管网分布极广,数量极多,且安装环境闭塞,安装和维护的人工成本极大,在人力有限的情况下通常无法完全有效解决。且当面临极端环境变化,如长期干涸或大量降雨带来的水量变化,传统方法往往无力应对,从而造成测量仪表损坏,带来经济损失。

发明内容

为了克服上述问题,本发明提供了一种水质测量仪表防护装置。

本发明公开了一种水质测量仪表防护装置,属于环境监测领域。本发明的水质测量仪表防护装置,包括水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置三大部分。水位自适应测量保护装置用于在不同水位条件下对测量仪表进行保护,以为其提供安全稳定的测量环境;水下旋转保洁装置用于通过旋转减少水中杂物挂壁,保持测量仪表清洁;测量探头维护装置用于测量仪表中测量探头的自动维护,保证测量准确度并防止仪器损坏。水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置组装于伸缩支架上,通过螺旋电缆进行电力和信号连接,可灵活适应现场安装环境,采用一体化的安装方式,在地面完成所有部件组装和布线,降低狭小空间施工难度。所有水下装置采用独立全密封防水结构。

优选的,所述水质测量仪表防护装置由水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置组成;组装构成的水质测量仪表防护装置可以适应城市地下管网复杂水体条件和安装环境,对水质测量仪表进行综合防护,降低人工维护工作量,保证水质测量仪表长期安全稳定工作。

优选的,所述水位自适应保护装置包括浮块、防搁浅装置和独立全密封防水结构。在正常水位下通过浮块保持测量仪表在水体中的适宜位置,防止淤泥遮挡;在水位过低时通过防搁浅装置防止测量仪表陷入水体底部淤泥;在水位过高时通过所有水下装置采用的独立全密封防水结构对测量仪表进行防漫灌保护。

优选的,所述水下旋转保洁装置包括旋转保护罩、旋转控制系统。旋转保护罩用于隔离水体杂物,随水流方向绕安装杆双向360°旋转,在水流作用力和重力影响下减少杂物挂壁堆积,保证内部测量仪表的清洁;旋转控制系统用于控制旋转保护罩状态,使其采取被动式水流冲击旋转,或主动式电力驱动旋转。

优选的,所述测量探头维护装置包括液位传感器、维护控制系统、探头清洗装置。液位传感器用于获取当前水位信息,为维护控制系统提供输入。维护控制系统根据当前水位信息或人工输入,对探头清洗装置发送相应操作命令。探头清洗装置用于根据操作命令对测量探头进行仿人工机械清洗或专用液保护性清洗。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州希玛诺光电技术股份有限公司,未经杭州希玛诺光电技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010103165.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top