[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括第一显示区与第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率；所述第一显示区包括多个发光区与多个透光区，多个所述发光区与多个所述透光区间隔排布，所述第二显示区与所述第一显示区的发光区内分别设有多个子像素，从而使得第一显示区与第二显示区可进行显示；第一显示区的透光区内未设置子像素；

所述显示基板包括：

衬底；

形成于所述衬底上的导电层及搭接部，所述导电层位于所述第二显示区及所述发光区，所述搭接部位于所述透光区，所述导电层与所述搭接部位于同一层且材料相同；

形成位于所述导电层上的阴极层，所述阴极层包括多个阴极块，所述阴极块覆盖所述第二显示区或覆盖所述发光区，相邻两个所述发光区的阴极块通过该两个发光区之间的所述搭接部电连接；

所述显示基板包括像素电路层，所述像素电路层包括所述导电层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素电路层包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅电极，所述导电层为所述栅电极。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述形成于所述像素电路层上的阳极及位于所述阳极与所述阴极之间的有机发光材料；

所述像素电路层位于所述搭接部之上的膜层在所述衬底上的正投影与所述搭接部在所述衬底上的正投影不重叠；所述阳极在所述衬底上的正投影与所述搭接部在所述衬底上的正投影不重叠；所述有机发光材料在所述衬底上的正投影与所述搭接部在所述衬底上的正投影不重叠。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述搭接部在所述衬底上的正投影的边缘、以及与该搭接部电连接的阴极块在所述衬底上的正投影的边缘重叠。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，沿所述透光区指向所述发光区的方向，所述搭接部在所述衬底上的正投影、及与该搭接部电连接的阴极块在所述衬底上的正投影重叠的部分的尺寸范围为[500μm，1000μm]。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一显示区内，所述发光区的总面积与所述透光区的总面积的比值范围为1:1～1:2。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，同一所述透光区内设有至少两个搭接部，沿所述透光区的延伸方向，所述至少两个搭接部阵列排布。

8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-7任一项所述的显示基板。

9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括第一显示区与第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率；所述第一显示区包括多个发光区与多个透光区，多个所述发光区与多个所述透光区间隔排布，所述第二显示区与所述第一显示区的发光区内分别设有多个子像素，从而使得第一显示区与第二显示区可进行显示；第一显示区的透光区内未设置子像素；

所述显示基板的制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成导电层及搭接部，所述导电层位于所述发光区及所述第二显示区，所述搭接部位于所述透光区；所述导电层与所述搭接部在同一工艺步骤中形成；

在所述导电层上形成阴极层，所述阴极层包括多个阴极块，所述阴极块覆盖所述第二显示区或覆盖所述发光区，相邻两个所述发光区的阴极块通过该两个发光区之间的所述搭接部电连接；

所述显示基板包括像素电路层，所述像素电路层包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅电极，所述导电层为所述栅电极。