[发明专利]一种膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法

权利要求书

1.一种膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)、前处理：将待处理工件放入反应腔，向反应腔内通入C₃F₆和/或C₄F₈，在真空条件下以电离的C₃F₆和/或C₄F₈对工件表面进行处理；

(2)、活化：在反应腔内利用等离子气体对工件表面进行活化处理；

(3)、汽化：将亲水材料和疏水材料混合均匀得到混合镀膜材料，所述亲水材料和疏水材料均为硅烷类材料，所述疏水材料包含氟元素，所述亲水材料包含亲水性基团；汽化后的混合镀膜材料进入反应腔；

(4)、沉积亲水膜：设定反应腔内的射频功率为第一功率300-400W，在真空度下沉积亲水膜，在沉积过程中对真空度由低到高进行调整；

(5)、沉积疏水膜：之后调整反应腔内的射频功率为第二功率600-800W，在真空度下沉积疏水膜，在沉积过程中对真空度由低到高进行调整；

(6)、后处理：将经步骤(5)之后的工件密封包装，放置于恒温恒湿环境20-45min以保证样品隔绝空气中氧气和水分以及稳固疏水膜。

2.根据权利要求1所述的膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，所述步骤(1)中，在向反应腔通入C₃F₆和/或C₄F₈的同时通入惰性气体。

3.根据权利要求1所述的膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，所述步骤(1)中，反应腔内的射频功率为300-400W，真空度为0.04-0.08mbar。

4.根据权利要求1所述的膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，所述步骤(2)中，利用O₂进行等离子气体表面活化。

5.根据权利要求1所述的膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，气体从所述反应腔的气体进口端进入，自与气体进口端相对的另一端以抽真空方式抽出；在步骤(4)和(5)中，沉积亲水膜和沉积疏水膜过程中，汽化的混合镀膜材料持续通入反应腔内同时反应腔持续气体排出。

6.根据权利要求5所述的膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，所述步骤(4)中，沉积亲水材料时，向反应腔同步通入辅助气体氧气；所述步骤(5)中，沉积疏水材料时，向反应腔同步通入辅助气体为惰性气体。

7.根据权利要求1所述的膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，其特征在于，所述步骤(5)中，沉积疏水材料过程中，采用脉冲波，疏水膜的厚度增长速度为10～20nm/min。