[发明专利]有机电致发光显示装置用金属掩膜清洗方法及利用它的金属掩膜

权利要求书

1.一种清洗有机电致发光显示装置制造工艺中使用的金属掩膜的方法，其包括：

提供附着有环境异物或有机发光材料的金属掩模；以及

将所述金属掩膜浸渍于电解液后，向浸入所述电解液的电极供应电流，

其中，通过正向脉冲方式供应所述电流。

2.一种清洗有机电致发光显示装置制造工艺中使用的金属掩膜的方法，其包括：

提供附着有环境异物或有机发光材料的金属掩模；以及

将所述金属掩膜浸渍于电解液后，向浸入所述电解液的电极供应电流，

其中通过反向脉冲方式供应所述电流。

3.根据权利要求1或2所述的清洗金属掩膜的方法，其中，

所述电解液的温度为20℃至100℃。

4.根据权利要求3所述的清洗金属掩膜的方法，其中，

所述电流具有1.5A/dm2至25A/dm2的电流密度。

5.根据权利要求4所述的清洗金属掩膜的方法，其中，

所述清洗时间为3分钟至120分钟。

6.根据权利要求1或2所述的清洗金属掩膜的方法，其还包括：

通过泡沫供应装置进一步提供泡沫。

7.根据权利要求1或2所述的清洗金属掩膜的方法，其还包括：

通过超声波发生器进一步提供超声波。

8.根据权利要求1或2所述的清洗金属掩膜的方法，其中，

所述金属掩膜由殷钢或不锈钢制成，

所述电解液包括碱盐、水溶性有机酸盐及减少所述金属掩膜的损伤的抑制剂，

所述抑制剂包括硫脲、1,2,3-苯并三唑或吡啶基化合物。

9.根据权利要求8所述的清洗金属掩膜的方法，其中，

所述碱盐包括氢氧化盐、碳酸盐、硅酸盐或磷酸盐，所述有机酸盐包括柠檬酸盐、琥珀酸盐、醋酸盐或乙醇酸盐。

10.根据权利要求1或2所述的清洗金属掩膜的方法，其中，

所述提供金属掩膜的步骤包括：

将所述金属掩膜放置在用于形成有机电致发光显示装置的基板上；

利用所述金属掩膜在所述基板上形成由所述有机材料构成的图案；以及

将所述金属掩膜从所述基板移开。

11.一种金属掩膜，其通过根据权利要求1或2所述的清洗金属掩膜的方法来清洗。