[发明专利]微透镜结构及其制造方法

说明书

本发明公开一种微透镜结构及其制造方法，其中该微透镜结构包括基底与微透镜。微透镜包括形状调整部与透镜图案。形状调整部包括位于基底上的多个形状调整图案。透镜图案覆盖多个形状调整图案。

技术领域

本发明涉及一种半导体元件及其制造方法，且特别是涉及一种微透镜结构及其制造方法。

背景技术

目前，微透镜已普遍地被使用在光学元件(如，影像传感器或显示器)中，以提升光学元件的效能。然而，由于材料与制作工艺的限制，难以制作出具有较高高度的微透镜。

发明内容

本发明提供一种微透镜结构及其制造方法，其有利于制作出具有较高高度的微透镜。

本发明提出一种微透镜结构，包括基底与微透镜。微透镜包括形状调整部与透镜图案。形状调整部包括位于基底上的多个形状调整图案。透镜图案覆盖多个形状调整图案。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整图案可具有多种间距。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整部可具有密集区与疏松区。密集区中的形状调整图案的间距可小于疏松区中的形状调整图案的间距。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，透镜图案在密集区中的高度可高于透镜图案在疏松区中的高度。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整图案与透镜图案可具有相同折射率。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整图案与透镜图案可具有不同折射率。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整图案与透镜图案可为相同材料。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整图案与透镜图案可为不同材料。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，形状调整图案的材料例如是正光致抗蚀剂材料或负光致抗蚀剂材料。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，透镜图案的材料例如是正光致抗蚀剂材料或负光致抗蚀剂材料。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，微透镜的形状可为对称形状。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构中，微透镜的形状可为不对称形状。

本发明提出一种微透镜结构的制造方法，包括以下步骤。在基底上形成形状调整部。形状调整部包括多个形状调整图案。形成覆盖多个形状调整图案的透镜图案。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构的制造方法中，形状调整图案的形成方法可包括以下步骤。在基底上形成光致抗蚀剂材料层。对光致抗蚀剂材料层进行曝光制作工艺。在对光致抗蚀剂材料层进行曝光制作工艺之后，对光致抗蚀剂材料层进行显影制作工艺。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构的制造方法中，还可包括对形状调整图案进行固化处理。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构的制造方法中，透镜图案的形成方法可包括以下步骤。形成覆盖形状调整图案的光致抗蚀剂材料层。对光致抗蚀剂材料层进行曝光制作工艺。在对光致抗蚀剂材料层进行曝光制作工艺之后，对光致抗蚀剂材料层进行显影制作工艺。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构的制造方法中，还可包括对透镜图案进行固化处理。

依照本发明的一实施例所述，在上述微透镜结构的制造方法中，还可包括以下步骤。在形成形状调整部之前，在基底上形成透光层。形状调整图案与透镜图案位于透光层上。以形状调整图案与透镜图案作为掩模，对透光层进行图案化制作工艺，而将由形状调整图案与透镜图案所组成的图案转移至透光层。