[发明专利]一种自激形多点射流等离子体点火器有效

专利信息
申请号: 202010089719.2 申请日: 2020-01-18
公开(公告)号: CN111734531B 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 张志波;吴云;金迪;宋慧敏;贾敏;梁华;崔巍 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军工程大学
主分类号: F02C7/266 分类号: F02C7/266
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710051 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 多点 射流 等离子体 点火器
【权利要求书】:

1.一种自激形多点射流等离子体点火器,由壳体(101)、绝缘体(102)、射流腔(103-1~103-4)、放电电极(201~206)组成;其特征在于

壳体(101)由耐高温的高温合金加工而成,整体为中空的圆柱结构,内部腔体用来安装绝缘体(102);

绝缘体(102)为内部打孔的圆柱体,由耐高温绝缘体加工而成,内嵌于点火器壳体(101)中,与点火器壳体(101)紧密连接,绝缘体(102)前端与壳体(101)前端持平;绝缘体(102)前端间隔加工多个圆型浅腔,形成射流腔(103-1、103-2、103-3、103-4),射流腔围绕绝缘体(102)的圆心均匀分布,其轴线与绝缘体(102)的轴线平行,射流腔为多个,具体数量根据实际需要确定;绝缘体(102)后端间隔加工多个圆型深腔,其轴线与绝缘体(102)的轴线平行,用于插入放电电极(201~206),将其命名为“电极孔”;根据射流腔的数量确定电极孔数量,每两个相邻的射流腔作为一组,配套三个电极孔;在一组射流腔中,从腔体截面看,两个相邻射流腔内两处对应的远端位置附近,对应两个电极孔位置,这两个电极孔腔体的相对最外侧与射流腔对应的腔体最外侧基本一致,也就是说,从截面的角度看,这两个电极孔被包含在射流腔内,紧贴射流腔相对最外侧的内壁布置;这两个相邻的射流腔之间,对应第三个电极孔位置,该电极孔正好位于这两个相邻的射流腔的中间,但该电极孔从这两个相邻射流腔的侧壁分别凸出一部分,便于该电极孔中的电极与其他两个电极孔中的电极发生等离子体放电;由此,射流腔的横截面积大于电极孔的横截面积;

放电电极(201~206)由耐高温材料加工成圆柱形,从点火器后部沿电极孔插入,并凸出射流腔底部。

2.如权利要求1所述的自激形多点射流等离子体点火器,其特征在于,壳体(101)外部直径为16~22mm,内部通孔直径为8~15mm;绝缘体(102)为耐高温陶瓷,绝缘体(102)外部直径与壳体(101)内部通孔直径相同;射流腔间隔为0.5~2mm,射流腔直径为2~5mm,腔深度为5~15mm;电极直径为1~3mm,电极孔直径与电极直径相同,二者紧密配合;同一射流腔中两个电极间距为1~5mm;放电电极(201~206)凸出射流腔底部1~5mm。

3.如权利要求2所述的自激形多点射流等离子体点火器,其特征在于,壳体(101)外部直径为18mm;内部通孔直径为14mm;射流腔间隔为1mm,射流腔直径为3mm,腔深度为7mm;电极直径为1.5mm;同一射流腔中两个电极间距为1.5mm;放电电极(201~206)凸出射流腔底部3mm。

4.如权利要求1所述的自激形多点射流等离子体点火器,其特征在于,射流腔为4个,电极孔为6个;其中第一、第二射流腔(103-1、103-2)为一组,配套电极为第一、第二、第三电极(201、202、203),其中第一、第三电极(201、203)为两个远端电极,第二电极(202)为中间电极;第二电极(202)被两个射流腔共用,即第二电极(202)作为第一射流腔(103-1)放电电极对的阴极,也作为第二射流腔(103-2)放电电极对的阳极;第一射流腔(103-1)放电电极对的阳极是第一电极(201),第二射流腔(103-2)放电电极对的阴极是第三电极(203);同理,第三、第四射流腔(103-3、103-4)为一组,配套电极为第四、第五、第六电极(204、205、206),其中第四、第六电极(204、206)为两个远端电极,第五电极(205)为中间电极;第三射流腔(103-3)放电电极对的阴极是第六电极(206),第四射流腔(103-4)放电电极对的阳极是第四电极(204);当采用四个射流腔设计时,射流腔与电极关系为:第一射流腔(103-1)中安装第一、第二放电电极(201、202);第二射流腔(103-2)中安装第二、第三放电电极(202、203);第三射流腔(103-3)中安装第五、第六放电电极(205、206);第四射流腔(103-4)中安装第四、第五放电电极(204、205)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军空军工程大学,未经中国人民解放军空军工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010089719.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top