[发明专利]一种凹凸触感饰件的水转印制造工艺

权利要求书

1.一种凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，包括如下步骤：

提供模具，模具具有模腔；

对模具进行咬花处理，使得模腔的内壁形成凹凸结构；

向咬花处理后的模具的模腔内注入熔融物料，熔融物料冷却后形成凹凸构件；

提供水转印设备及水转印胶膜，利用水转印设备将水转印胶膜的图案层转印在凹凸构件上，使得凹凸构件成为凹凸触感饰件。

2.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于：所述凹凸结构位于模腔的底壁上。

3.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供激光雕刻设备，利用激光雕刻设备对模具进行咬花处理，激光雕刻设备在模腔的内壁上镭射雕刻出凹凸结构。

4.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于：所述凹凸结构包括多个凸起及多个凹坑，凸起、凹坑均呈楔形，凸起自由端的外径小于凸起靠近模腔的内壁面一端的外径，凹坑靠近模腔的内壁面一端的孔径大于凹坑远离模腔的内壁面一端的孔径。

5.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供静电除尘设备、第一水洗设备及第一烘干设备，利用静电除尘设备对凹凸构件进行静电除尘，利用第一水洗设备对静电除尘设备处理后的凹凸构件进行水洗处理，利用第一烘干设备烘干第一水洗设备水洗后的凹凸构件，水转印设备将水转印胶膜的图案层转印在第一烘干设备烘干后的凹凸构件上。

6.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供印刷设备及胶膜片材，印刷设备将外界的油墨印刷在胶膜片材上形成水转印胶膜。

7.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供活化剂及第一喷涂设备，将水转印胶膜放入水转印设备中，利用第一喷涂设备将活化剂喷涂到水转印设备的水转印胶膜上，使得水转印胶膜的图案层活化成油墨状态，水转印设备将水转印胶膜上活化成油墨状态的图案层转印在凹凸构件上。

8.根据权利要求1所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供第二水洗设备，利用第二水洗设备对凹凸触感饰件进行水洗。

9.根据权利要求8所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供风干设备及第二烘干设备，风干设备利用流动空气吹至第二水洗设备水洗后的凹凸触感饰件，第二烘干设备利用高温气体烘干风干设备处理后的凹凸触感饰件。

10.根据权利要求9所述的凹凸触感饰件的水转印制造工艺，其特征在于，还包括如下步骤：

提供第二喷涂设备，第二喷涂设备向第二烘干设备烘干后的凹凸触感饰件喷射防护面漆，防护面漆形成遮盖凹凸触感饰件上的图案层的防护层。