[发明专利]一种微焦斑光源参数测量透镜、以及测量系统和方法在审

专利信息
申请号: 202010069075.0 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN111413069A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 王亚冰;孙天希;邵尚坤;孙学鹏 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G03B42/02
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 胡丹
地址: 100875 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 微焦斑 光源 参数 测量 透镜 以及 系统 方法
【说明书】:

本公开披露一种微焦斑光源参数测量透镜、以及测量系统和方法,该系统包括:X射线聚焦镜,设置于待测量的X射线光源之后,并使所述X射线在其中进行单次全反射;X射线探测器,设置于所述X射线聚焦镜之后,配置有用于调节器件同轴的多维度调节架;所述X射线探测器用于探测经所述X射线聚焦镜全反射的X射线的能量;光束阻挡器,设置于所述X射线探测器之前,用于阻挡通过所述X射线聚焦镜的直通光;数据处理器,与所述X射线探测器连接,用于获取所述X射线探测器的测量数据,并结合测量系统的基础参数数据,调用预设的参数计算公式,计算得到微焦斑光源参数。通过实施本公开的技术方案,能够同时、并且准确地测量及计算得到光源焦斑和焦深。

技术领域

本公开涉及X射线技术领域,特别涉及一种微焦斑光源参数测量透镜、以及测量系统和方法。

背景技术

X射线光源在X射线科学和技术应用的诸多领域有着广泛的应用,有效表征X射线光源的特征参数对X射线光源的设计、生产和发展,起着至关重要的作用。本申请的发明人经过大量调研,发现业内较为常用的测量X射线光源的焦斑大小的方法主要有这样几种,分别说明如下:

1、小孔成像方法

小孔成像方法是目前测量焦斑大小的常用方法,但是,由于这种方法要求小孔尺寸小于焦斑尺寸,因此在测量微米或亚微米级别的微焦斑光源尺寸时,对小孔直径尺寸有极高的要求,因而很难通过小孔成像方法,对微焦斑光源的焦斑尺寸进行准确的测量。

2、多毛细管准直器测量法

利用多毛细管准直器的方法,可以有效地对微焦斑X射线光源的焦斑尺寸测量。但是,多毛细管准直器的制作工艺比较复杂,且成本较高。此外,这种方法只能测量焦斑尺寸,不能测量焦深。

3、椭球单玻璃毛细管X射线聚焦镜测量法

利用椭球单玻璃毛细管X射线聚焦镜,可以在测量微焦斑光源焦斑尺寸的同时,测量出光源的焦深,但是,在制作上很难达到理想的椭球面型,并且在使用椭球单玻璃毛细管X射线聚焦镜测量焦斑尺寸时,需要准确寻找到聚焦镜焦点,这一步骤使得测量过程变得相对复杂很多。

另外,测算焦深和焦斑尺寸还要用到面型误差这个参数,而对面型误差的测量本身就会产生一定的偏差,从而将更多的误差引入测算结果。

为解决上述难题,本申请的发明人一直在研究和开发单玻璃X射线聚焦镜的相关技术和应用,致力于设计出一种新的测量X射线光源焦深和焦斑尺寸的方法,从而能够准确、有效地测量出X射线光源的焦深和焦斑尺寸等特征参数。

发明内容

有鉴于此,本公开实施例提出一种微焦斑光源参数测量透镜、以及测量系统和方法,能够同时、并且准确地测量及计算得到光源焦斑和焦深。

在一可选实施方案中,本公开披露的一种微焦斑光源参数测量系统,包括:

X射线聚焦镜,设置于待测量的X射线光源之后,并使所述X射线在其中进行单次全反射;

X射线探测器,设置于所述X射线聚焦镜之后,配置有用于调节器件同轴的多维度调节架;所述X射线探测器用于探测经所述X射线聚焦镜全反射的X射线的能量;

光束阻挡器,设置于所述X射线探测器之前,用于阻挡通过所述X射线聚焦镜的直通光;

数据处理器,与所述X射线探测器连接,用于获取所述X射线探测器的测量数据,并结合测量系统的基础参数数据,调用预设的参数计算公式,计算得到微焦斑光源参数。

在一些可选实施例中,上述微焦斑光源参数测量系统中,所述光束阻挡器,设置于所述X射线聚焦镜之后,所述X射线探测器之前;或者,所述光束阻挡器,设置于所述X射线聚焦镜之前,所述X射线光源之后。

在一些可选实施例中,上述微焦斑光源参数测量系统还可包括:

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