[发明专利]限制结构、线源装置及蒸镀系统

权利要求书

1.一种限制结构，其特征在于，包括：

蒸镀源，固定于一安装面上，用于喷射蒸镀材料；

两个限制板，均固定于所述安装面上，并相对设置于所述蒸镀源的两侧，且两个所述限制板均具有腔体；

吸附孔，设于所述限制板靠近所述蒸镀源的表面，且与所述腔体连通；

吸附组件，与所述腔体连通，用于通过所述吸附孔吸附所述限制板靠近所述蒸镀源的表面累积的蒸镀材料。

2.根据权利要求1所述的限制结构，其特征在于，所述限制板包括：

支撑部，固定于所述安装面上，并向远离所述安装面的一侧延伸；

限制部，一端连接于所述支撑部远离所述安装面的一端，另一端按照预设角度向靠近所述蒸镀源的一侧延伸；

两个限制板对应的两个所述限制部之间具有露出所述蒸镀源的开口。

3.根据权利要求1所述的限制结构，其特征在于，所述吸附孔的数量为多个，且各所述吸附孔按照预设间距均匀分布于所述限制板靠近所述蒸镀源的表面。

4.根据权利要求2所述的限制结构，其特征在于，所述支撑部和所述限制部为一体式结构，所述腔体贯通于所述支撑部和所述限制部。

5.根据权利要求2所述的限制结构，其特征在于，通过两个所述限制部之间的开口限定所述蒸镀源的蒸镀角，所述蒸镀角为45°。

6.一种线源装置，其特征在于，包括：

权利要求1-5任一项所述的限制结构；以及

坩埚机构，设于所述安装面远离所述蒸镀源的一侧，用于向所述蒸镀源提供蒸镀材料。

7.根据权利要求6所述的线源装置，其特征在于，所述线源装置包括多个所述坩埚机构及多个所述限制结构，且各所述坩埚机构与各所述限制结构一一对应设置。

8.根据权利要求7所述的线源装置，其特征在于，所述线源装置包括一一对应设置的两个所述限制结构及两个所述坩埚机构，且一所述坩埚机构用于向与其对应的限制结构的蒸镀源提供蒸镀主体材料，另一所述坩埚机构用于向与其对应的限制结构的蒸镀源提供蒸镀客体材料。

9.根据权利要求6所述的线源装置，其特征在于，所述线源装置还包括：

蒸发腔室，用于容纳所述限制结构及所述坩埚机构；

控制阀门，设于所述蒸发腔室上；

真空泵，通过所述控制阀门与所述蒸发腔室连通，用于在所述控制阀门打开时调节所述蒸发腔室内的真空度。

10.一种蒸镀系统，包括权利要求6-9任一项所述的线源装置。