[发明专利]一种有机硅复合聚氨酯的合成革及其制备方法有效
| 申请号: | 202010057598.3 | 申请日: | 2020-01-17 |
| 公开(公告)号: | CN111231473B | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
| 发明(设计)人: | 范德文;李江群 | 申请(专利权)人: | 江西赛欧特科新材料有限公司 |
| 主分类号: | B32B27/40 | 分类号: | B32B27/40;B32B27/12;B32B5/02;B32B29/00;B32B29/02;B32B7/06;B32B38/00;C08L83/07;C08L83/04;C08L83/05;C08K7/26;C08J5/18 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;王兰兰 |
| 地址: | 330319 江西省九*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 有机硅 复合 聚氨酯 合成革 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种有机硅复合聚氨酯的合成革,由两层材料组成,自上而下依次为有机硅面层、聚氨酯贝斯;所述的有机硅面层,包含以下重量份的原料:乙烯基聚硅氧烷100份、苯基硅树脂1‑40份、含氢聚硅氧烷1‑15份、填料1‑50份、铂金催化剂0.1‑10份。本申请有机硅复合聚氨酯的合成革,层间粘接好,且具有柔软丰满的手感、突出的耐水解、耐盐雾、阻燃性、较低的VOCs排放以及极小的针孔等性能。同时,本发明还公开一种所述有机硅复合聚氨酯的合成革的制备方法。
技术领域
本发明涉及合成革的制造技术领域,具体的涉及一种有机硅复合聚氨酯的合成革及其制备方法。
背景技术
作为天然皮革的替代品,聚氨酯合成革经历了数十年的发展,从最初商品化简单的涂在基布的产品,到后来出现的发泡贝斯工艺,再到最新的仿真皮的超纤工艺,产品不停的更新换代;然而由于聚氨酯材料本身的缺陷,导致聚氨酯相关的合成革产品耐水解、耐盐雾、阻燃、VOCs释放等问题层出不穷。近几年出现的无溶剂有机硅合成革则很好的解决了上述问题,然其也有缺点,有机硅材料发泡比较困难,无法形成聚氨酯的均匀细腻的贝斯结构,因此,合成革的“肤感”性能未能完美呈现。其次,有机硅材料的力学性能比较低,车缝过程中针孔比较大,影响外观。
发明内容
基于此,本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种有机硅复合聚氨酯的合成革,该合成革层间粘接好,且具有柔软丰满的手感、突出的耐水解、耐盐雾、阻燃性、较低的VOCs排放以及极小的针孔等性能。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:
一种有机硅复合聚氨酯的合成革,由两层材料组成,自上而下依次为有机硅面层、聚氨酯贝斯;
所述的有机硅面层,包含以下重量份的成分:乙烯基聚硅氧烷100份、苯基硅树脂1-40份、含氢聚硅氧烷1-15份、填料1-50份、铂金催化剂0.1-10份;
所述的乙烯基聚硅氧烷,其分子链上至少含有两个与硅原子直接键合的乙烯基,乙烯基可以处于分子链的任何位置,可以位于分子链的两端,可以处于分子链的侧位;所述苯基硅树脂为具有MQ结构的、分子链上至少含有一个苯基的硅氧烷空间网状聚合物;所述的含氢聚硅氧烷,其分子链上至少含有三个与硅原子直接键合的活性氢。
优选地,所述的有机硅面层,包含以下重量份的成分:乙烯基聚硅氧烷100份、苯基硅树脂26-35份、含氢聚硅氧烷4-9份、填料1-50份、铂金催化剂0.1-10份。
本申请乙烯基聚硅氧烷的分子结构不受限制,可以是线性的、支链的、环状的或者他们的组合物。所述的乙烯基聚硅氧烷可以列举为:乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷、乙烯基封端的甲基乙烯基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物乙烯基封端的甲基苯基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物、乙烯基封端的甲基三氟丙基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物、乙烯基封端的甲基苯基硅氧烷-甲基三氟丙基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物、乙烯基封端的甲基乙烯基硅氧烷-甲基苯基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物、三甲基硅氧基封端的甲基乙烯基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物、三甲基硅氧基封端的甲基乙烯基硅氧烷-甲基苯基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物、三甲基硅氧基封端的甲基乙烯基硅氧烷-甲基三氟丙基硅氧烷-二甲基硅氧烷的共聚物等。
优选地,所述的乙烯基聚硅氧烷,乙烯基的质量百分含量为0.01-2%。乙烯基含量太低则交联的网络不完善,不能提供有效的力学支撑;乙烯基含量太高则交联点太过密集,胶体脆性较强。
优选地,所述苯基硅树脂的数均分子量为2000-30000。分子量太小形成的网状结构不完整,不能突出其物性;分子量太大,影响涂布性能。
本申请所述的苯基硅树脂,其分子链的M单元除苯基外,其他的与硅原子相连的有机基团不受限制,可以是彼此相同或者不同的具有1-8个碳原子的烷基或者卤代烷基,环烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、醇基、环氧基、异氰酸酯基、氢、羟基等基团。
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