[发明专利]一种屏蔽罩冲压拉深制备方法

权利要求书

1.一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：冲导孔，在板材上冲导向圆孔；

S2：预冲裁，冲裁出拉深屏蔽罩所用的胚料和拉深需要的延伸脚；

S3：初拉深，初步拉深出屏蔽罩的基本形状，并预留一圈待精拉区域；

S4：精拉深，将初拉深后的待精拉区域进行二次拉深，直至屏蔽罩的目标尺寸；

S5：冲底孔，根据预设屏蔽罩底部的底孔形状冲裁出屏蔽罩底孔，得到屏蔽罩产品；

S6：冲落料，分离得到屏蔽罩成品。

2.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S3中初步拉深出屏蔽罩的基本形状，工作零件尺寸为所需屏蔽罩尺寸外形单边大出0.15～0.20毫米。

3.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S4中工作零件尺寸为所需屏蔽罩优化尺寸。

4.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S4中拉深零件安装在脱料板上。

5.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S4中脱料板上设有脱料零件和线弹簧力等高零件，下模设有矩形弹簧力顶料块。

6.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S4中的运行次序为先拉深后压料。

7.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S5中使用的下模零件有两个高度的平台面，其中一个平台面与冲压材料底部相接，另一个平台面与被冲裁材料的底部面相接。

8.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩冲压拉深制备方法，其特征在于，S6中根据屏蔽罩产品外形设定下冲裁刀口和上冲切零件，通过引导定位完成产品外形尺寸并分离出屏蔽罩零件。