[发明专利]集成有波导的低维材料异质结光电探测器有效

专利信息
申请号: 202010053655.0 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111180545B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 蒋青松;吴静;白雨驰;张宇林;季仁东;周广宏 申请(专利权)人: 淮阴工学院
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 廖娜;李锋
地址: 223005 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 集成 波导 材料 异质结 光电 探测器
【权利要求书】:

1.一种集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,包括:

衬底(1),形成于所述衬底(1)上的光波导(2),设置在所述光波导(2)的光耦合输入端(3)的1×2光分束器(4),覆盖在所述光波导(2)表面上的低维材料异质结薄膜(5),在所述低维材料异质结薄膜(5)两端、所述光波导(2)两侧还分别覆盖正电极(6)和负电极(7);所述低维材料异质结薄膜(5)与所述光波导(2)的传输方向垂直设置;在所述光波导(2)与所述低维材料异质结薄膜(5)的相互作用区,所述光波导(2)为两个锥型波导结构相对设置的结构。

2.根据权利要求1所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述低维材料异质结薄膜(5)由自上而下或自下而上依次覆盖的二硫化钼薄膜材料层(501)、氮化硼薄膜材料层(502)和黑鳞薄膜材料层(503)组成。

3.根据权利要求2所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述二硫化钼薄膜材料层(501)的厚度为1nm~20nm,带隙变化范围为1.2eV~1.8eV。

4.根据权利要求2所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述黑鳞薄膜材料层(503)的厚度为1nm~20nm,带隙变化范围为0.3eV~1eV。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,在所述光波导的两侧还分别设置有第一石墨烯电阻加热器(8)和第二石墨烯电阻加热器(9)。

6.根据权利要求5所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述第一石墨烯电阻加热器(8)和所述第二石墨烯电阻加热器(9)分别距离所述光波导200nm-3000nm。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述光波导(2)的材料为在400-4000nm光波段范围具有低传输损耗的材料。

8.根据权利要求7所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述光波导(2)的材料为氮化硅材料、铌酸锂材料或氮化铝材料。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的集成有波导的低维材料异质结光电探测器,其特征在于,所述正电极(6)和所述负电极(7)距离所述光波导的最小间距均大于500nm。

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