[发明专利]一种基于石英玻璃外延GaN的工艺改进方法在审

专利信息
申请号: 202010046706.7 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN111540668A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 汪宁;黄森;王鑫华;王大海 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/304;H01L21/683
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 纪志超
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 石英玻璃 外延 gan 工艺 改进 方法
【权利要求书】:

1.一种基于石英玻璃外延GaN的工艺改进方法,其特征在于,所述工艺改进方法包括:

提供一以石英玻璃为衬底生长GaN外延结构的晶圆片结构;

将所述晶圆片结构的正面键合在蓝宝石托盘上;

将所述蓝宝石托盘安装在减薄设备上,对所述石英玻璃采用不同材料的浆液和磨盘进行多次减薄处理,以使所述晶圆片结构的厚度小于预设阈值;

对多次减薄处理后的石英玻璃进行抛光处理,以使表面粗糙度小于预设阈值;

在所述石英玻璃的背面形成散热金属层;

去除所述蓝宝石托盘。

2.根据权利要求1所述的工艺改进方法,其特征在于,所述将所述晶圆片结构的正面键合在蓝宝石托盘上,包括:

采用旋涂工艺,在蓝宝石托盘上涂覆20μm厚的HT1010涂层;

在1mm厚的晶圆片结构的正面电路上均匀涂覆厚度为3μm-5μm的AZ4620光刻胶;

在温度180℃和压力0.6Bar的情况下,将所述晶圆片结构的正面键合在所述蓝宝石托盘上。

3.根据权利要求1所述的工艺改进方法,其特征在于,所述将所述蓝宝石托盘安装在减薄设备上,对所述石英玻璃采用不同材料的浆液和磨盘进行多次减薄处理,以使所述晶圆片结构的厚度小于预设阈值,包括:

采用第一种人造钻石浆液和Cu磨盘,对所述石英玻璃进行第一次减薄处理,以使1mm厚的晶圆片结构的厚度减小至<220μm,厚度均匀性TTV至±5μm。

4.根据权利要求3所述的工艺改进方法,其特征在于,所述第一种人造钻石浆液的主要成分包括:

多晶型立方氮化硼,多晶型颗粒直径为15μm,浆液添加剂为聚乙二醇和硅酸乙酯混合物,浆液溶剂为DI水,三者质量比为10:50:500~10:60:400,浆液PH值为6~7;

所述Cu磨盘为具有渐开线条纹凹槽的磨盘。

5.根据权利要求3所述的工艺改进方法,其特征在于,所述将所述蓝宝石托盘安装在减薄设备上,对所述石英玻璃采用不同材料的浆液和磨盘进行多次减薄处理,以使所述晶圆片结构的厚度小于预设阈值,包括:

采用第二种人造钻石浆液和Cu及Sn合金磨盘,对所述石英玻璃进行第二次减薄处理,以使1mm厚的晶圆片结构的厚度减小至<150μm,厚度均匀性TTV至±2μm。

6.根据权利要求5所述的工艺改进方法,其特征在于,所述第二种人造钻石浆液的主要成分包括:

多晶型立方氮化硼,多晶型颗粒直径为3μm,浆液添加剂为聚乙二醇和硅酸乙酯混合物,浆液溶剂为DI水,三者质量比为10:50:500~10:60:400,浆液PH值为6~7;

所述Cu及Sn合金磨盘为具有渐开线条纹凹槽的磨盘,其中,Cu:Sn=1:1。

7.根据权利要求5所述的工艺改进方法,其特征在于,所述将所述蓝宝石托盘安装在减薄设备上,对所述石英玻璃采用不同材料的浆液和磨盘进行多次减薄处理,以使所述晶圆片结构的厚度小于预设阈值,包括:

采用刚玉浆液和玻璃磨盘,对所述石英玻璃进行第三次减薄处理,以使1mm厚的晶圆片结构的厚度减小至<70μm,厚度均匀性TTV至±1μm。

8.根据权利要求7所述的工艺改进方法,其特征在于,所述刚玉浆液的主要成分包括:

刚玉颗粒,颗粒直径为1μm,浆液添加剂为聚乙二醇和乙酸乙酯混合物,浆液溶剂为DI水,三者质量比为10:20:500~10:30:400,浆液PH值为7-8;

所述玻璃磨盘为具有放射状条纹凹槽的磨盘。

9.根据权利要求1所述的工艺改进方法,其特征在于,所述对多次减薄处理后的石英玻璃进行抛光处理,以使表面粗糙度小于预设阈值,包括:

采用纳米级抛光浆液,结合聚酯纤维抛光布,将晶圆片结构抛光至镜面效果,其厚度均匀性TTV为±0.5μm,表面粗糙度Ra小于1nm。

10.根据权利要求9所述的工艺改进方法,其特征在于,所述纳米级抛光浆液的主要成分包括:

纳米Al2O3颗粒,颗粒直径为50nm,添加剂为次氯酸盐和硅酸盐,浆液溶剂为DI水,抛光液PH值为7-9。

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