[发明专利]具有光感测元件的电子装置与相关制作方法在审

专利信息
申请号: 202010042607.1 申请日: 2020-01-15
公开(公告)号: CN113204983A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 刘侑宗;杨蕙菁;李淂裕;张道生;纪廷晔 申请(专利权)人: 群创光电股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;H01L27/32;H01L27/15;H01L21/77
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 侯奇慧
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有光 元件 电子 装置 相关 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种电子装置以及一种电子装置的制作方法,其中,该电子装置包括一显示结构层以及一光感测面板。该光感测面板包括一第一基板;一第二基板,其中该第二基板介于该第一基板与该显示结构层之间;多个感测单元,设置于该第一基板之上,且介于该第一基板与该第二基板之间;以及一光学结构层,设置于该第二基板之上,且介于该第二基板与该显示结构层之间。

技术领域

本发明涉及一种电子装置与相关制作方法,尤其涉及一种具有光感测元件的电子装置与相关制作方法。

背景技术

如今,电子装置,例如显示设备不仅需要具有显示功能,还需要具有诸如触控或辨识功能之类的其他功能。因此,期望能够提供一种新颖的电子装置,以改善屏下光学式指纹辨识传感器的灵敏度,及指纹的成像清晰度。

发明内容

本发明提供一种具有光感测元件的电子装置与相关制作方法。

本发明提供一种电子装置,包括一显示结构层以及一光感测面板。该光感测面板包括一第一基板;一第二基板,其中该该第二基板介于该第一基板与该显示结构层之间;多个感测单元,设置于该第一基板之上,且介于该第一基板与该第二基板之间;以及一光学结构层,设置于该第二基板之上,且介于该第二基板与该显示结构层之间。

本发明还公开一种电子装置的制作方法,包含下列步骤:提供一第一基板,以在该第一基板上形成多个感测单元;提供一第二基板,以在该第一基板上配置该第二基板;在该第二基板上形成一光学结构层,且该第二基板介于该第一基板与该光学结构层之间;以及将一显示结构层配置于该光学结构层之上。

于一发明实施例中,增加成像距离以改善指纹图像清晰度或是感光层的材料或结构上的改变提升光感测组件的灵敏度。

附图说明

图1为本发明实施例一电子装置的剖面示意图。

图2为本发明实施例一制作流程的流程图。

图3为本发明实施例电子装置的详细剖面示意图。

图4为本发明另一实施例光感测面板的剖面示意图。

图5为本发明实施例感测电路和发光二极管的等效电路图。

图6为本发明实施例光感测面板的示意图。

图7为本发明另一实施例光感测面板的示意图。

图8为本发明另一实施例光感测面板的示意图。

附图标记说明:10-电子装置;11、61、71-光感测面板;111-发光二极管;112-感测电路;12-显示结构层;13、14-基板;15、65、75、76-光学结构层;16-感测单元;ZPS-距离;Z1、Z2-尺寸;200、201、202、203、204、205、206-导电层;211、212、213、214、215、216、217、218、219-绝缘层;220-1、220-2-半导体层;221、222-配向层;223-遮光层;21-基材;22-发光单元;23-黏着层;24-保护层;25-介质层;26-间隔单元;30-感光层;31、32、33-次感光层;C1、C2、C3-中心;36-绝缘层;37-开口;41、42、43-晶体管;VSEN-感测电压;VCC1、VCC2、VCC3-系统电压线;DCGy-控制信号;IAMP-放大电流;ROx-读出信号线;SCNy-扫描线信号;150-同心圆结构;P15、P65、P75-距离;650、760-孔洞;X、Y、Z-方向;280-制作流程;281、282、283、284、285、286-步骤。

具体实施方式

通过参考以下的详细描述并同时结合附图可以理解本发明,须注意的是,为了使读者能容易了解及为了图式的简洁,本发明中的多张图式只绘出电子装置的一部分,且图式中的特定组件并非依照实际比例绘图。此外,图中各组件的数量及尺寸仅作为示意,并非用来限制本发明的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于群创光电股份有限公司,未经群创光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010042607.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top