[发明专利]磁记录介质及磁记录再现装置在审

专利信息
申请号: 202010041725.0 申请日: 2020-01-15
公开(公告)号: CN111627466A 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 冈田未央 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: G11B5/41 分类号: G11B5/41;G11B5/48
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质 再现 装置
【权利要求书】:

1.一种磁记录介质,包括一对主面和设于所述主面之间的侧面,在所述主面具有进行磁记录的记录区域,至少在所述侧面具有非记录区域,

在所述非记录区域具有表面自由能比所述记录区域高的污染物捕集部。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质,

所述磁记录介质包括非磁性基板和层叠体,所述层叠体包括在所述非磁性基板之上设置的磁记录层、在所述磁记录层之上设置的保护层,以及在所述保护层之上设置的润滑层,

所述污染物捕集部包括所述保护层的从所述润滑层露出的部分。

3.根据权利要求2所述的磁记录介质,

在所述一对主面和所述侧面之间还具备倒角部,

所述保护层覆盖所述磁记录层、所述倒角部、所述侧面,

所述润滑层覆盖所述磁记录层之上的所述保护层,以使得覆盖所述倒角部的所述保护层和覆盖所述侧面的所述保护层被露出。

4.根据权利要求1所述的磁记录介质,

所述污染物捕集部的表面自由能是50.5mN/m以上。

5.根据权利要求1所述的磁记录介质,

所述磁记录介质呈盘状,在所述记录区域的内周及外周还具有所述非记录区域。

6.一种磁记录再现装置,包括权利要求1至5中任一项所述的磁记录介质。

7.根据权利要求6所述的磁记录再现装置,

所述磁记录再现装置还包括与所述磁记录介质以规定的间隔对置配置的一个磁记录介质。

8.一种磁记录再现装置,

具有按照从1到n的顺序互相平行配置的n个磁记录介质,其中n是3以上的整数,

所述n个磁记录介质中的至少第2个到第n-1个磁记录介质是权利要求1至5中任一项所述的磁记录介质。

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