[发明专利]一种磁流变抛光装置有效

专利信息
申请号: 202010041475.0 申请日: 2020-01-15
公开(公告)号: CN111168480B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 王新海;马瑾;张永军 申请(专利权)人: 陕西国防工业职业技术学院
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B57/02;B24B57/00
代理公司: 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 代理人: 王程远
地址: 710300 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 流变 抛光 装置
【说明书】:

发明提供一种磁流变抛光装置,包括底座,底座上通过伸缩设有工作台,工作台上设有旋转承载平台,承载平台上设有固定件,承载平台外围设有支架,底座上还设有电源;支架上设有导轨、第一滑轨、第二滑轨、抛光工具和磁流变液储存部,抛光工具包括支撑部,支撑部上设有磁流变液喷头,磁流变液喷头下设有抛光盘;磁流变液喷头与磁流变液储存部通过导料管连接;支撑部上还设有缠绕线圈的铁芯,线圈与电源电连接。本发明装置操作简单方便且省时省力,抛光均匀且去除效率高;且便于检修与拆装;原料可回收利用,避免浪费,节约成本。

【技术领域】

本发明涉及光学元件抛光技术领域,尤其涉及一种磁流变抛光装置。

【背景技术】

随着科学技术的发展,现代光学系统对光学零件的表面形状精度、表面粗糙度以及亚表面损伤程度的要求越来越高,这对光学制造技术不断提出新的挑战,各种先进的确定性抛光技术也不断涌现。磁流变抛光作为一种新型的光学元件加工方法,通过磁场使抛光头和工件表面之间的磁流变液体的流变性能发生变化,在工件表面与磁流变液接触区域产生较大的剪切应力,从而使工件表面材料被去除。然而现有的磁流变抛光装置存在去除效率低且去除均匀性低的问题。

【发明内容】

为了解决上述现有的磁流变抛光装置存在去除效率低且去除均匀性低的问题,本发明提供一种磁流变抛光装置。

一种磁流变抛光装置,其特征在于,所述装置包括底座,

所述底座上设有伸缩支撑杆,所述伸缩支撑杆上端设有工作台,所述工作台上设有能在所述工作台上旋转的承载平台,所述底座上在所述承载平台外围固定连接有支架,所述底座上还设有电源;

所述承载平台上活动连接有用于固定待抛光元件的固定件;

所述支架上设有导轨,所述导轨上通过滑槽连接有第一滑轨,所述第一滑轨上通过滑槽连接有第二滑轨,所述第二滑轨上固定连接有抛光工具;所述支架上端还设有支架顶,所述支架顶上设有用于盛放磁流变液的磁流变液储存部,所述磁流变液储存部底部设有出料口;

所述抛光工具包括支撑部,所述支撑部上设有磁流变液通道,所述磁流变液通道下端可拆卸连接有磁流变液喷头,所述磁流变液喷头上设有若干个喷孔,所述磁流变液喷头下端通过螺纹可拆卸连接有抛光盘;所述磁流变液通道上端可拆卸连接有导料管,所述导料管上端与所述出料口可拆卸连接,所述导料管上还设有防止漏液的限流夹;所述支撑部上还通过螺栓I固定设有位于所述磁流变喷头两侧的铁芯,所述铁芯外围还缠绕有线圈,所述线圈与所述电源电连接。

优选的,所述底座上在所述承载平台与所述支架之间还设有磁流变液回收池,所述磁流变液回收池底部设有坡度,所述磁流变液回收池坡度最低处设有出液口,所述出液口还设有相匹配的出液口活塞。

优选的,所述支架一侧设有用于控制所述装置工作的控制面板,所述控制面板包括用于控制所述线圈工作的第一按键、用于控制所述第一滑轨工作的第二按键和用于控制所述第二滑轨工作的第三按键,所述控制面板分别与所述电源、所述线圈、所述第一滑轨和所述第二滑轨电连接。

优选的,所述承载平台与所述工作台之间还设有转动杆,所述转动杆底部设有转动块,所述工作台上设有与所述转动块相匹配的转动槽,所述转动杆与所述工作台之间通过所述转动块和所述转动槽活动连接,所述转动杆上端与所述承载平台焊接,所述转动杆上焊接有第一齿轮,所述第一齿轮外啮合有第二齿轮,所述第二齿轮键连接有第一电机,所述第一电机与所述电源电连接。

优选的,所述承载平台两侧均设有滑槽,所述固定件下端两侧设有与所述滑槽相匹配的滑块,所述滑块上设有贯穿孔,所述贯穿孔内设有用于锁紧所述固定件位置的螺杆。

优选的,所述磁流变液喷头上设有外螺纹,所述磁流变液通道下端设有与所述外螺纹相匹配的内螺纹。

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