[发明专利]蒸镀方法、蒸镀装置以及显示装置在审
| 申请号: | 202010040141.1 | 申请日: | 2020-01-15 |
| 公开(公告)号: | CN111244330A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
| 发明(设计)人: | 杨付强;杜骁 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 方法 装置 以及 显示装置 | ||
1.一种蒸镀方法,其特征在于,包括
至少一像素蒸镀步骤,在一基板表面蒸镀出红色像素和/或绿色像素和/或蓝色像素。
2.如权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,
所述像素蒸镀步骤包括以下步骤:
掩膜板设置步骤,将一掩膜板传入一蒸镀装置的机台处;
基板设置步骤,将一基板传入所述蒸镀装置的腔体内部;
对位步骤,将所述掩膜板与所述基板对位处理;
蒸镀步骤,蒸镀所述基板;以及
掩膜板更换步骤,更换另一掩膜版,重复执行2~5次所述掩膜板设置步骤、所述基板设置步骤、所述对位步骤及所述蒸镀步骤。
3.如权利要求2所述的蒸镀方法,其特征在于,
在所述掩膜板更换步骤中,
更换的另一掩膜板的开口在所述基板表面的正投影与所述掩膜板在所述基板表面的正投影相离。
4.如权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,
所述像素蒸镀步骤包括以下步骤:
掩膜板设置步骤,将第一掩膜板传入一蒸镀装置的第一机台处,将第二掩膜板传入所述蒸镀装置的第二机台处,将第三掩膜板传入所述蒸镀装置的第三机台处;
基板设置步骤,将一基板传入所述蒸镀装置的一腔室内部,所述腔室与所述第一机台相对设置;
对位步骤,将所述掩膜板与所述基板对位处理;
蒸镀步骤,蒸镀所述基板;以及
基板传递步骤,将基板传送至所述蒸镀装置的另一腔室内,重复执行2~5次所述对位步骤及所述蒸镀步骤。
5.如权利要求4所述的蒸镀方法,其特征在于,
在基板传递步骤中,
所述第二掩膜板的开口在所述基板表面的正投影与所述第一掩膜板在所述基板表面的正投影相离。
6.一种显示装置,包括如权利要求1~5中任一项所述的蒸镀方法制成的基板。
7.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:
机台,用于放置基板;
边框,用以安装掩膜板;以及
至少一掩膜板,包括第一掩膜板和/或第二掩膜板和/或第三掩膜板;
其中,所述第一掩膜板安装至所述框架,且与所述基板相对设置,用以将红色像素蒸镀至所述基板;
所述第二掩膜板安装至所述框架,且与所述基板相对设置,用以将蓝色像素蒸镀至所述基板;
所述第三掩膜板安装至所述框架,且与所述基板相对设置,用以将绿色像素蒸镀至所述基板。
8.如权利要求7所述的蒸镀装置,其特征在于,
每一掩膜板包括若干开口;
蒸镀同一像素的若干掩膜板的开口形状相同;
蒸镀同一像素的至少一掩膜板的若干开口排列成矩阵。
9.如权利要求8所述的蒸镀装置,其特征在于,
一掩膜板的开口在所述基板下表面的正投影与另一掩膜板在所述基板下表面的正投影相离。
10.如权利要求7所述的蒸镀装置,其特征在于,
所述基板包括显示区和非显示区;
所述掩膜板包括开口区,所述开口区设有排成矩阵的若干开口,所述开口区的边界与所述矩阵的边缘一致。
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