[发明专利]一种基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法

权利要求书

1.一种基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：在衬底上均匀旋转涂覆光刻胶并干燥，光刻后，在所述衬底上获得多组图案化电极结构区域；

步骤2：通过压电喷涂方法在所述图案化电极结构区域上喷涂金属粒子墨水，并干燥固化得到金属电极层；

其中，喷涂金属粒子墨水时，喷涂的针尖与所述衬底的距离小于等于45～50μm；喷涂电压为200～230V，喷涂速度为0.8～1.3mm/s，喷涂厚度为50～70nm；

步骤3：将所述衬底置于有机溶剂中，剥离光刻胶获得边界整齐的薄膜电极。

2.如权利要求1所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，所述衬底包括硬质衬底和柔性衬底；所述硬质衬底包括玻璃衬底或者硅片衬底；所述柔性衬底包括聚对苯二甲酸乙二醇酯衬底或者聚酰亚胺衬底。

3.如权利要求2所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，当所述衬底为硬质衬底时，在衬底上旋转涂覆光刻胶，控制转速为290～320r/min，旋转涂覆15～25s，转速升至1800～2200r/min，旋转涂覆25～35s，完成衬底上光刻胶的涂覆。

4.如权利要求3所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，在衬底上完成光刻胶涂覆后，在60～70℃下烘干28～32min。

5.如权利要求2所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，当所述衬底为柔性衬底时，在衬底上旋转涂覆光刻胶，控制转速为290～320r/min，旋转涂覆15～25s，转速升至2300～2600r/min，旋转涂覆28～40s，完成衬底上光刻胶的涂覆。

6.如权利要求5所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，在衬底上完成光刻胶涂覆后，在85～95℃下烘干4～8min。

7.如权利要求1-6中任意一项所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，在所述步骤1中，在所述衬底上获得多组图案化电极结构区域包括：

在均匀旋转涂覆光刻胶的衬底上遮盖掩膜版，曝光15～20s，置于显影液中显影8～10s，在所述衬底上形成多组图案化电极结构区域。

8.如权利要求7所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，在所述步骤3中，将所述衬底置于有机溶剂中，超声剥离30～35s，获得边界整齐的薄膜电极。

9.如权利要求8所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，所述金属粒子墨水为金属银纳米粒子墨水或者金属铜纳米粒子墨水。

10.如权利要求8或9所述的基于喷墨融合的薄膜电极材料沉积方法，其特征在于，所述有机溶剂为丙酮溶液。