[发明专利]文字相似度确定方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种文字相似度确定方法，其特征在于，包括：

根据第一点集序列以及第二点集序列确定第一对应距离，所述第一点集序列用于表征采样字的第一笔画，所述第二点集序列用于表征样本字中与所述第一笔画对应的第二笔画，所述第一点集序列包括多个第一特征点，所述第二点集序列包括多个第二特征点，所述第一对应距离包括所述第一特征点到所述第二点集序列的距离以及所述第二特征点到所述第一点集序列的距离；

根据所述第一对应距离确定第二对应距离，所述第二对应距离用于表征所述第一笔画与所述第二笔画之间的距离；

根据所述第二对应距离确定第三对应距离，所述第三对应距离用于表征所述采样字与所述样本字之间的相似度。

2.根据权利要求1所述的文字相似度确定方法，其特征在于，所述根据所述第二对应距离确定第三对应距离之后，还包括：

根据所述相似度以及参考评分样本集确定评分系统，所述评分系统用于为输入文字评分，所述输入文字为矢量字。

3.根据权利要求1或2所述的文字相似度确定方法，其特征在于，所述根据所述第一点集序列以及所述第二点集序列确定对应点距离之前，还包括：

获取第一点集合以及第二点集合，所述第一点集合用于表征所述采样字，所述第二点集合用于表征与所述采样字对应的所述样本字，所述采样字以及所述样本字都为所述矢量字；

通过预设插值算法以及第一点子集确定第一点集序列，所述第一点子集为所述第一点集合中所述第一笔画所属的子集，所述第一点子集包括多个第一参考点；

通过所述预设插值算法以及第二点子集确定第二点集序列，所述第二点子集为所述第二点集合中所述第二笔画所述的子集，所述第二点子集包括多个第二参考点。

4.根据权利要求3所述的文字相似度确定方法，其特征在于，所述根据第一点集序列以及第二点集序列确定第一对应距离，包括：

根据所述第一特征点确定第一浮点，所述第一浮点用于表征所述第一特征点在所述第二点集序列中的插值位置；

通过预设距离算法确定第一点对应距离，所述第一点对应距离为所述第一特征点与所述第一浮点之间的距离，所述第一点对应距离用于表征所述第一特征点到所述第二点集序列的距离；

根据所述第二特征点确定第二浮点，所述第二浮点用于表征所述第二特征点在所述第一点集序列中的插值位置；

通过所述预设距离算法确定第二点对应距离，所述第二点对应距离为所述第二特征点与所述第二浮点之间的距离，所述第二点对应距离用于表征所述第二特征点到所述第一点集序列的距离；

所述第一对应距离包括所述第一点对应距离以及所述第二点对应距离。

5.根据权利要求4所述的文字相似度确定方法，其特征在于，所述根据所述第一对应距离确定第二对应距离，包括：

根据所述第一点对应距离以及所述第一点集序列的长度确定第一笔画距离，所述第一笔画距离为所述第一笔画到所述第二笔画的距离；

根据所述第二点对应距离以及所述第二点集序列的长度确定第二笔画距离，所述第二笔画距离为所述第二笔画到所述第一笔画的距离；

所述第二对应距离包括第一笔画距离以及第二笔画距离。

6.根据权利要求5所述的文字相似度确定方法，其特征在于，所述根据所述第二对应距离确定第三对应距离，包括：

根据第一笔画距离以及总笔画数确定第一距离，所述第一距离为所述采样字到所述样本字的距离；

根据第二笔画距离以及所述总笔画数确定第二距离，所述第二距离为所述样本字到所述采样字的距离；

根据所述第一距离以及所述第二距离确定所述第三对应距离。