[发明专利]灭弧室以及断路器

权利要求书

1.灭弧室，包括底座(1)和设于所述底座(1)上的中座(2)以及盖合于所述底座(1)和所述中座(2)上的盖体(3)，所述中座(2)内开设有用于容纳若干灭弧片(4)的容纳腔(21)，所述灭弧片(4)垂直于所述底座(1)设置，且相邻的所述灭弧片(4)之间具有灭弧间隙(41)，磁支架(5)可延伸至所述灭弧片(4)上，其特征在于：所述中座(2)在远离所述磁支架(5)的一端设有用于封堵所述灭弧间隙(41)的挡弧筋组(22)，所述挡弧筋组(22)包括相互交错设置的上层挡弧筋(221)和下层挡弧筋(222)，所述上层挡弧筋(221)和所述下层挡弧筋(222)分别遮挡相邻的两个所述灭弧间隙(41)的上部和下部。

2.如权利要求1所述的灭弧室，其特征在于：所述中座(2)上横设有隔板(23)，所述隔板(23)平行于所述底座(1)设置，且所述隔板(23)的外缘朝向所述盖体(3)凸设有上缓冲壁(231)，所述隔板(23)、所述盖体(3)以及所述上缓冲壁(231)之间围合形成有上缓冲区(24)，所述灭弧间隙(41)的上部可与所述上缓冲区(24)相连通；

所述隔板(23)的外缘朝向所述底座(1)的一侧凸设有下缓冲壁(232)，所述隔板(23)、所述底座(1)和所述下缓冲壁(232)之间形成有下缓冲区(25)，所述灭弧间隙(41)的下部可与所述下缓冲区(25)相连通；

靠近所述磁支架(5)的一侧的所述下层挡弧筋(222)具有缺口，且靠近所述磁支架(5)的一侧的所述灭弧间隙(41)的下部未封堵。

3.如权利要求2所述的灭弧室，其特征在于：所述上缓冲区(24)在远离所述磁支架(5)的一侧开设有第一出气口(233)，所述下缓冲区(25)在远离所述磁支架(5)的一侧开设有第二出气口(234)。

4.如权利要求2所述的灭弧室，其特征在于：所述上层挡弧筋(221)凸设于所述隔板(23)远离所述底座(1)的一侧，所述上层挡弧筋(221)包括若干间隔设置的上层挡块，每一所述上层挡块均对应一所述灭弧间隙(41)的上方；所述下层挡弧筋(222)凸设于所述隔板(23)靠近所述底座(1)的一侧，所述下层挡弧筋(222)包括若干间隔设置的下层挡块，每一所述下层挡块均对应一所述灭弧间隙(41)的下方；所述上层挡块和所述下层挡块交错设置。

5.如权利要求4所述的灭弧室，其特征在于：位于远离所述磁支架(5)的一端的所述上层挡块的一侧设有拐角板(31)，所述拐角板(31)封堵最远离所述磁支架(5)的一端的所述灭弧间隙(41)。

6.如权利要求3所述的灭弧室，其特征在于：位于最靠近所述磁支架(5)的一侧的所述灭弧片(4)和所述中座(2)的边缘之间具有出气通道(26)，所述中座(2)上开设有连接所述出气通道(26)和所述上缓冲区(24)的第三出气口(27)以及连接所述出气通道(26)和所述下缓冲区(25)的第四出气口(28)。

7.如权利要求6所述的灭弧室，其特征在于：所述第三出气口(27)的横截面面积大于所述第四出气口(28)的横截面面积。

8.如权利要求6所述的灭弧室，其特征在于：所述上缓冲壁(231)在朝向所述出气通道(26)的一侧延伸有围合于所述出气通道(26)外缘的延伸壁(235)。

9.如权利要求1至7任一项所述的灭弧室，其特征在于：所述中座(2)在用于固定所述磁支架(5)的固定柱的一侧还开设有第五出气口(29)。

10.断路器，其特征在于：包括磁支架(5)和如权利要求1至9任一项所述的灭弧室，所述磁支架(5)可延伸至所述灭弧室上，且所述磁支架(5)上设有静触头(51)。