[发明专利]显影设备及显影方法

说明书

本发明公开一种显影设备及显影方法。该显影设备包括：机台，设置有用于承载待显影基材的显影区；支架，固定于机台上且位于显影区的侧方；导轨，固定于支架上，且该导轨的延伸方向与待显影基材在显影区内的传输方向相同；液刀，用于喷涂显影液，所述液刀设置于导轨上并位于显影区上方，且允许沿导轨的延伸方向移动。基于此，本发明设计液刀可沿导轨移动，其姿态和位置可被改变，有利于清除液刀背面及液刀底部沾粘的光刻胶，确保清洁效果及后续显影品质。

技术领域

本发明涉及显影技术领域，具体涉及一种显影设备及显影方法。

背景技术

LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)等显示装置的制造工艺通常包括阵列工艺，阵列工艺是在玻璃基板上有规则的做成TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)器件、像素等图案(Pattern)的过程。阵列工艺中又包括对光刻胶(Photoresist，简称PR)进行处理的曝光显影工艺。曝光显影工艺需要在玻璃基板上涂布光刻胶，进行曝光，再在玻璃基板上由前端到后端依次喷涂显影液。显影液与曝光的光刻胶化学反应，从而在玻璃基板上形成相应的光刻胶图案。在这一环节当中，业界通常采用液刀向待显影的玻璃基板喷涂显影液。

在曝光显影工艺完成之后，需要对液刀进行清洁以去除沾粘于液刀上的光刻胶，以此确保后续显影品质。但是，当前的液刀一般采用螺丝锁附等方式固定，液刀姿态保持固定，导致液刀背面及液刀底部这些位置沾粘的光刻胶难以清除，而如果确保这些位置的清洁效果，则需要将液刀从所固定的机台上拆卸下来，操作较为复杂。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种显影设备及显影方法，以解决现有的液刀固定方式导致液刀清洗效果不佳而不利于确保显影品质的问题。

本发明提供的一种显影设备，包括：

机台，设置有用于承载待显影基材的显影区；

支架，固定于所述机台上且位于所述显影区的侧方；

导轨，固定于所述支架上，且所述导轨的延伸方向与所述待显影基材在所述显影区内的传输方向相同；

液刀，用于喷涂显影液，所述液刀设置于所述导轨上并位于所述显影区上方，且允许沿所述导轨的延伸方向移动。

可选地，所述显影设备还包括定位件，所述定位件设置于导轨上，并用于在液刀沿导轨移动至预定位置时将液刀定位在预定位置。

可选地，所述定位件包括套设于导轨上的第一旋转卡环和第二旋转卡环，所述第一旋转卡环和第二旋转卡环分设于液刀的两侧，并允许沿导轨相对旋转以缩小两者间距以此分别与液刀的两侧相抵接。

可选地，所述显影设备包括三个导轨，所述三个导轨垂直于待显影基材在显影区内的传输方向排布，所述三个导轨相互间隔设置。

可选地，所述三个导轨中相邻两个导轨之间的距离相等。

可选地，位于两侧的导轨均设置有第一旋转卡环和第二旋转卡环。

可选地，所述导轨的下部开设有轨道凹槽，所述液刀的上部设有滑块，所述滑块卡设于轨道凹槽内并允许沿轨道凹槽的延伸方向移动。

本发明提供的一种显影方法，包括：

将待显影基材承载于机台的显影区；

利用支架和导轨将液刀设置于所述机台上，其中所述支架固定于所述机台上且位于所述显影区的侧方，所述导轨固定于所述支架上，且其延伸方向与所述待显影基材在显影区内的传输方向相同；

将所述液刀沿所述导轨的延伸方向移动至所述显影区上方；

相对移动所述液刀和所述待显影基材，并利用所述液刀向所述显影区的待显影基材喷涂显影液并对所述待显影基材进行显影。