[发明专利]正投影屏幕及投影系统

权利要求书

1.一种正投影屏幕，其特征在于，包括沿厚度方向依次层叠的纳米级微细结构层（106）、成像层（100）、光学结构层（107）和反射层（105）；

所述纳米级微细结构层（106）远离所述成像层（100）的一侧表面设置有若干纳米级微细结构（115），所述纳米级微细结构（115）为凹状结构或者凸状结构；

所述光学结构层（107）在厚度方向的横截面为若干相互排布的三角形，所述三角形的一边设置在所述成像层（100）表面，所述三角形的另外两边附着所述反射层（105）。

2.根据权利要求1所述的正投影屏幕，其特征在于，所述纳米级微细结构（115）线度（d）为20nm～350nm，任意相邻的所述纳米级微细结构（115）中心距离（p）为20nm～700nm。

3.根据权利要求2所述的正投影屏幕，其特征在于，任意相邻的所述纳米级微细结构（115）中心距离（p）为100nm或150nm或200nm或250nm中至少一种。

4.根据权利要求1所述的正投影屏幕，其特征在于，所述纳米级微细结构（115）为凹状结构，所述凹状结构为圆柱体、圆锥体、圆台体、棱台体、棱锥体、球体的局部或抛物面形中至少一种，所述凹状结构的凹面底部尺寸≤凹面表面尺寸。

5.根据权利要求1所述的正投影屏幕，其特征在于，所述纳米级微细结构（115）为凸状结构，所述凸状结构为圆柱体、圆锥体、圆台体、棱台体、棱锥体、球体的局部或抛物面形中至少一种，所述凸状结构的凸面底部尺寸≥凸面表面尺寸。

6.根据权利要求1所述的正投影屏幕，其特征在于，所述纳米级微细结构（115）采用材料去除加工法或模具涂布转印或阳极氧化或光刻中至少一种方式制作于所述纳米级微细结构层（106）表面。

7.根据权利要求1所述的正投影屏幕，其特征在于，所述成像层（100）包括扩散粒子层（101）、点状透镜层（104）、扩散面层（102）和柱状微透镜层（103）中至少一种。

8.根据权利要求7所述的正投影屏幕，其特征在于，所述扩散粒子层（101）包括透明基材层（120）和透明树脂层（140），所述透明树脂层（140）中混合有扩散粒子（111），所述扩散粒子（111）为球体或多面体。

9.根据权利要求1所述的正投影屏幕，其特征在于，所述光学结构层（107）包括线性菲涅尔透镜结构（116）、圆形菲涅尔透镜结构（117）、线光栅结构（118）和弧形光栅结构（119）中至少一种结构。

10.一种投影系统，其特征在于，包括投影装置（T）和基于所述投影装置（T）输出的投影光束（E）进行成像显示的如权利要求1至9任一项所述的正投影屏幕（10）；

所述投影装置（T）设置在所述正投影屏幕（10）的纳米级微细结构层（106）远离所述成像层（100）的一侧；

所述正投影屏幕包括沿厚度方向依次层叠的纳米级微细结构层（106）、成像层（100）、光学结构层（107）和反射层（105）；

所述纳米级微细结构层（106）远离所述成像层（100）的一侧表面设置有若干纳米级微细结构（115），所述纳米级微细结构（115）为凹状结构或者凸状结构；

所述光学结构层（107）在厚度方向的横截面为若干相互排布的三角形，所述三角形的一边设置在所述成像层（100）表面，所述三角形的另外两边附着所述反射层（105）。