[发明专利]显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制备方法。该显示面板包括功能区，该方法包括：在衬底上制备阵列功能层；在该阵列功能层上制备封装层；对该封装层和该阵列功能层的该功能区进行刻蚀，形成一凹槽。本申请实施例通过采用蚀刻的方式除去功能区内的多层级，由于该蚀刻方式相较于传统的切割工艺更加温和，不易对无机材料层产生裂纹，因此有效的防止了水氧对面板内部元器件的损害，从而提高了显示面板的良品率，节约成本。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板及其制备方法。

背景技术

随着信息传输技术与电子产品的发展，有机电致发光二极管(OLED)显示器得到越来越广泛的应用，因为其优点突出，包括亮度高，响应快，能耗低，成本低等。目前全面屏为一大发展趋势，为实现更高的屏占比，目前的方案有刘海屏、水滴屏、挖孔屏、升降式摄像头乃至屏下摄像头；其中挖孔屏以其开孔小，摄像头与屏幕一体性好的优势，使得屏幕看起来更为完整，视觉冲击感更强，是一种广泛应用的全面屏方案。

但是传统的屏幕挖孔方式采用一种切割的方法，在切割工段过程中，容易会产生裂纹，使得水汽和氧气则会透过裂纹渗透到器件内部，对发光材料造成侵蚀，使显示屏寿命下降。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，通过采用蚀刻的方式除去功能区内的多层级，由于该蚀刻方式相较于传统的切割工艺更加温和，不易对无机材料层产生裂纹，因此有效的防止了水氧对面板内部元器件的损害，从而提高了显示面板的良品率，节约成本。

第一方面，本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括功能区，所述方法包括：

在衬底上制备阵列功能层；

在所述阵列功能层上制备封装层；

对所述封装层和所述阵列功能层的所述功能区进行刻蚀，形成一凹槽。

在一些实施例中，所述对所述封装层和所述阵列功能层的所述功能区进行刻蚀，包括：

对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻。

在一些实施例中，所述对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻，包括：

通过掩膜版覆盖所述封装层，其中，所述掩膜版对应所述功能区的位置镂空。

在一些实施例中，所述对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻，包括：

通过氟化物气体对所述封装层和所述阵列功能层进行干法蚀刻。

在一些实施例中，所述对所述封装层和所述阵列功能层的所述功能区进行刻蚀，形成一凹槽，之后，所述方法还包括：

采用有机层对所述凹槽进行填充。

在一些实施例中，在采用有机层对所述凹槽进行填充，之后，所述方法还包括：

沿所述凹槽的延伸方向，切割所述有机层和所述衬底。

在一些实施例中，所述切割所述有机层和所述衬底，包括：

采用激光切割方法，切除所述有机层和所述衬底。

第二方面，本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括功能区，所述显示面板还包括衬底、阵列功能层、和封装层，在所述功能区形成有凹槽，所述凹槽采用如第一方面所述的方法制备而成。

在一些实施例中，所述封装层为两层层叠结构。

在一些实施例中，所述封装层为氮化硅、氧化硅和氮氧化硅中的一种或多种。