[发明专利]自发光高分子超滤膜制备方法及自发光高分子超滤膜

权利要求书

1.一种自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：包括步骤：在无氧条件下，向包含制膜高分子原材料与成孔剂在内的均相溶液中加入稀土铝酸盐自发光材料，并通过搅拌和超声振动使稀土铝酸盐自发光材料均匀的分散在均相溶液中，从而制得稳定的悬浮溶液，再用制得的悬浮溶液制备平板超滤膜或中空超滤膜；

所述的高分子原材料与稀土铝酸盐自发光材料的质量比为10：0.05～10：0.2；所述的高分子原料与所述成孔剂的质量比为10：0.1～10：1；所述的稀土铝酸盐自发光材料在所述的均相溶液中的用量为0.1～10wt％。

2.根据权利要求1所述的自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：所述的高分子原料与所述成孔剂的质量比为10：0.1～10：1；所述的稀土铝酸盐自发光材料在所述的均相溶液中的用量为1.6～4wt％。

3.根据权利要求2所述的自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：所述的高分子原材料与稀土铝酸盐自发光材料的质量比为10：0.15，稀土铝酸盐自发光材料在所述的均相溶液中的用量为2.4wt％或3.2wt％。

4.根据权利要求1、2或3所述的自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：所述的稀土铝酸盐自发光材料为SrAl₂O₄·Tb³⁺、SrAl₂O₄·Dy³⁺和SrAl₂O₄·Eu²⁺中的一种；所述的高分子原材料为聚偏氟乙烯、聚醚砜和聚四氟乙烯中的一种。

5.根据权利要求1、2或3所述的自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：所述均相溶液的溶剂为N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和二甲基亚砜中的一种或多种。

6.根据权利要求1、2或3所述的自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：所述的成孔剂为聚乙二醇。

7.根据权利要求1、2或3所述的自发光高分子超滤膜制备方法，其特征在于：所述的高分子原料的重均分子量为20000～200000。

8.一种由权利要求1-7任一项所述的制备方法制得的自发光高分子超滤膜。