[发明专利]一种掺杂钒酸镝磁光晶体、其制备生长方法及其应用在审

专利信息
申请号: 202010014911.5 申请日: 2020-01-07
公开(公告)号: CN111005071A 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 徐刘伟;吴少凡;王帅华;郑熠;黄鑫 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C30B29/30 分类号: C30B29/30;C30B15/00;G02F1/09
代理公司: 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 代理人: 张莹;杨晓云
地址: 350002 福建*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 掺杂 钒酸镝磁光 晶体 制备 生长 方法 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种基于钒酸镝的磁光晶体,其特征在于,化学式为

KxM1yMz2Dy(1-x-y-z)VO4

其中,0≤x≤0.5,0≤y≤0.5,0≤z≤0.5;M1为+3价金属离子,M2为+2价金属离子。

2.根据权利要求1所述的磁光晶体,其特征在于,所述M1选自Sc3+、Y3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Pm3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb3+、Lu3+、Al3+、Ga3+、In3+中的至少一种;

优选地,所述M2选自Mg+2、Ca+2、Sr+2、Ba+2、Zn+2、Cd+2、Pb+2、Eu+2中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的磁光晶体,其特征在于,所述磁光晶体在532nm波长条件下的Verdet常数为-249~-309rad/m/T,是TGG晶体的1.31~1.63倍;

优选地,所述磁光晶体的化学式为DyVO4晶体;

优选地,所述化学式为DyVO4的磁光晶体,在532nm波长下的Verdet常数为-308~-310rad/m/T,,是TGG晶体的1.62~1.64倍,消光比为34~36dB;

优选地,所述磁光晶体的化学式为K0.05Ba0.05Ga0.15Dy0.8VO4

优选地,所述化学式为K0.05Ba0.05Ga0.15Dy0.8VO4的磁光晶体,在532nm波长下的Verdet常数为-248~-250rad/m/T,是TGG晶体的1.30~1.32倍,消光比为37~39dB。

4.权利要求1-3任一项所述磁光晶体的制备方法,其特征在于,至少包括如下步骤:

(a)获取DyVO4粉体;

(b)将含有K源、第二V源、DyVO4粉体、M1源和M2源的混合物,研磨后,压片成型,烧结,获得KxM1yMz2Dy(1-x-y-z)VO4多晶体;

(c)将所述KxM1yMz2Dy(1-x-y-z)VO4多晶体采用提拉法得到KxM1yMz2Dy(1-x-y-z)VO4单晶。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院福建物质结构研究所,未经中国科学院福建物质结构研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010014911.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top