[发明专利]一种用于光刻过程顶部抗反射膜生产的含氟水溶性高分子材料无效
| 申请号： | 202010013964.5 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111171192A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 李永斌;钱亚飞;何龙龙;陈志鹏;汪叔林 | 申请（专利权）人： | 甘肃华隆芯材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F8/18 | 分类号： | C08F8/18;C08F8/24;C08F120/06;G03F7/004 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 张串串 |
| 地址： | 730900 甘肃省白银市白银区兰包路33*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 过程 顶部 反射 生产 水溶性 高分子材料 | ||
【权利要求书】：
1.一种含氟水溶性高分子材料，其特征在于：
将水溶性高分子树脂进行羧基改性，其中水溶性高分子树脂的主链为聚丙烯酸
将支链的羧基变为-COORf，其中Rf是全氟聚醚结构或全氟直链结构单元，
全氟聚醚结构采用
其中m为0～9，
全氟直链结构采用CF3(CF2)n，其中n为1～6，
水溶性聚丙烯酸分子量Mw是1000～100000，
含氟水溶性高分子中，氟元素分子量应为总分子量的1～60％。
2.如权利要求1所述的一种含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述Rf是全氟聚醚结构，全氟聚醚结构聚合度为1～4。
3.如权利要求1所述的一种含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述全氟直链结构采用CF3(CF2)n，其中n为1～3。
4.如权利要求1所述的一种含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述含氟水溶性高分子材料的Mw是1000～10000。
5.如权利要求1所述的一种含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述含氟水溶性高分子中，氟元素分子量应为总分子量的10～50％。
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