[发明专利]COA基板及液晶显示面板在审

专利信息
申请号: 202010011405.0 申请日: 2020-01-06
公开(公告)号: CN111045267A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 张翼鹤 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1339
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: coa 液晶显示 面板
【说明书】:

一种COA基板及液晶显示面板,COA基板包括:第一衬底基板以及依次层叠在第一衬底基板一侧的多个膜层,多个膜层包括BPS黑色矩阵、BPS间隔柱以及色阻层;至少包含一层色阻层;BPS黑色矩阵和BPS间隔柱一体成型,形成黑色光学间隔物层;黑色光学间隔物层设置在色阻层背离第一衬底基板的一侧,以充分保护COA基板中的薄膜晶体管的性能不受光照的影响;有益效果为:首先,本申请在阵列基板中加入色阻层和黑色光学间隔物层,设置在像素单元的非开口区上方,替代彩膜基板上的黑色矩阵,可以更有效的遮挡像素单元的漏光问题;其次,COA基板中包括主间隔柱和辅间隔柱,主间隔柱又包括两层色阻层和一层黑色光学间隔物层,更进一步地提高了显示面板的遮光效果。

技术领域

本申请涉及显示领域,特别是涉及一种COA基板及液晶显示面板。

背景技术

现有的8K技术中,由于像素尺寸较小,开口率低,往往需要很强的背光才能达到理想的显示亮度,但背光亮度过高会对液晶盒内的薄膜晶体管器件的电性产生影响,造成光漏电,光漏电严重时,会使得显示面板出现串扰现象等影响显示面板的显示质量。在使用超清(UD)的4K和8K背光时,漏电流成倍增加,串扰问题加剧。引起漏电流产生的主要原因是由于光照影响了薄膜晶体管的性能而导致的。而通过降低背光的亮度,改善串扰降低的程度,但这样又会影响显示的亮度。因此,单纯的黑色矩阵的遮光结构有待改善。

因此,现有的液晶显示面板技术中,还存在着液晶显示面板内的遮光性能不够,导致光照影响薄膜晶体管的性能,进而产生漏电流,影响显示面板的显示质量的问题,急需改进。

发明内容

本申请涉及一种COA基板及液晶显示面板,用于解决现有技术中存在着液晶显示面板内的遮光性能不够,导致光照影响薄膜晶体管的性能,进而产生漏电流,影响显示面板的显示质量的问题。

为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:

本申请提供的一种COA基板,所述COA基板包括:第一衬底基板以及依次层叠在所述第一衬底基板一侧的多个膜层,所述多个膜层包括BPS黑色矩阵、BPS间隔柱以及色阻层;

至少包含一层所述色阻层;

所述BPS黑色矩阵和所述BPS间隔柱一体成型,形成黑色光学间隔物层;

所述黑色光学间隔物层设置在所述色阻层背离所述第一衬底基板的一侧,以充分保护所述COA基板中的薄膜晶体管的性能不受光照的影响。

根据本申请提供的一实施例,一层所述黑色光学间隔物层和两层不同的所述色阻层组成主间隔柱;一层所述黑色光学间隔物层和一层所述色阻层组成辅间隔柱。

根据本申请提供的一实施例,所述主间隔柱的高度大于所述辅间隔柱的高度;所述主间隔柱底面的横截面面积等于所述辅间隔柱底面的横截面面积。

根据本申请提供的一实施例,显示区和非显示区内均设置有所述主间隔柱和所述辅间隔柱;所述显示区内的所述主间隔柱和所述辅间隔柱设置在多行平行排列的扫描线上,即像素单元的非开口区内。

根据本申请提供的一实施例,所述主间隔柱和所述辅间隔柱均为圆台形。

根据本申请提供的一实施例,所述色阻层分为:第一色阻层和第二色阻层,所述第二色阻层设置在所述第一色阻层背离第一衬底基板的一侧;所述第一色阻层与所述第二色阻层的颜色不同。

根据本申请提供的一实施例,所述色阻层为:红色色阻层、绿色色阻层或是蓝色色阻层中的一种。

根据本申请提供的一实施例,所述黑色光学间隔物层与所述色阻层之间还设置有一层有机绝缘层。

根据本申请提供的一实施例,所述有机绝缘层为可溶性聚四氟乙烯材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010011405.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top