[发明专利]基于亚波长光栅的异质集成垂直耦合器及其应用在审
| 申请号: | 202010010935.3 | 申请日: | 2020-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN113075765A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
| 发明(设计)人: | 赵佳;赵然;孙崇磊;徐晓 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
| 主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122;G02B6/124;G02B6/12 |
| 代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 赵龙群 |
| 地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 波长 光栅 集成 垂直 耦合器 及其 应用 | ||
本发明涉及基于亚波长光栅的异质集成垂直耦合器及其应用,垂直耦合器包括绝热拉锥波导,绝热拉锥波导上设置有亚波长光栅;绝热拉锥波导的宽度从始端到末端均匀减少,绝热拉锥波导的两个侧边对称设置有亚波长光栅,亚波长光栅中光栅的长度由绝热拉锥波导的始端到末端均匀增大;绝热拉锥波导的长度为12.4‑58.9μm。本发明结合了亚波长光栅的特性,优化了绝热拉锥波导的耦合效果,使得耦合器的尺寸大大减少,并依然能保持97%以上的耦合率和100nm的带宽。
技术领域
本发明涉及基于亚波长光栅的异质集成垂直耦合器及其应用,属于垂直耦合器技术领域。
背景技术
硅晶绝缘体(Silicon-on-insulator,SOI)由于折射率差大,制备工艺与CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)工艺兼容一直广受学术界及工业届的青睐,被广泛应用于高密度光电集成线路。为了满足日益增长的数据吞吐量及集成密度的需求,实现可扩展的、具有高成本效益的Si基光电集成线路,三维(Three-dimensional,3D)集成逐渐引起科学家的广泛关注。
垂直光耦合器作为3D集成的关键器件,实现了多层平板光集成线路(Photonicintegrated circuits,PICs)之间的互连。垂直光耦合器的实现方式主要有绝热拉锥波导,垂直聚合物光波导及悬臂耦合器。其中,绝热拉锥波导由于耦合率高,制备简单而展现出了广阔的应用前景。但是,为了降低耦合损耗,波导必须满足绝热拉锥条件,因此器件尺寸较大。
以应用于硅基(Si)-铌酸锂(LiNO3,LN)混合集成光调制器中的垂直耦合器为例,铌酸锂晶体波导位于硅波导的上方,硅波导中的能量通过绝热拉锥结构时耦合进入上方铌酸锂波导中,为了实现大于97%的耦合率,硅波导的拉锥长度高达150μm,如此大的尺寸不利于提高集成度。如果直接缩小拉锥波导的长度,耦合效率下降明显,将不符合器件对耦合效率的要求。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了基于亚波长光栅的异质集成垂直耦合器及其应用,该垂直耦合器的尺寸大大减少,并能保持97%以上的耦合率,且对工艺制造误差有较大的误差容限。
术语说明:
亚波长光栅:subwavelength grating,SWG,光栅周期小于入射波长,对入射光只存在零级反射和衍射。
本发明的技术方案为:
基于亚波长光栅的异质集成垂直耦合器,所述垂直耦合器包括绝热拉锥波导,所述绝热拉锥波导上设置有亚波长光栅;所述绝热拉锥波导的宽度从始端到末端逐渐减少,所述绝热拉锥波导的两个侧边对称设置有亚波长光栅,所述亚波长光栅的长度由绝热拉锥波导的始端到末端逐渐增大;所述绝热拉锥波导的长度为12.4-58.9μm;
光在从绝热拉锥波导的始端进入垂直耦合器,并在垂直耦合器中继续传输;由于亚波长光栅等效为一个均匀材料波导,入射到亚波长光栅上的光,入射光电场极化方向平行于光栅周期界面方向,随绝热拉锥波导宽度减少,垂直耦合器的有效折射率逐渐减小,导致光由始端到末端进行传输并逐渐向上耦合到上层波导中,然后在上层波导中继续进行传输。
绝热拉锥波导层上设置亚波长光栅结构,根据等效介质理论,亚波长光栅等效为一个均匀材料波导,亚波长光栅的等效折射率介于绝热拉锥波导和上层波导之间,降低了耦合器与待传输波导的折射率差,因而能缩小绝热拉锥波导的长度。
根据本发明优选的,亚波长光栅的周期T为220-320nm,亚波长光栅的占空比为0.32-0.45;优选的,亚波长光栅的周期T为300nm,占空比为0.33。占空比即为亚波长光栅中相邻狭缝之间的光栅块的长度a与光栅周期T的比值。
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