[发明专利]光源装置

权利要求书

1.一种光源装置，其特征在于，所述光源装置包括：

一基板，包含有位于相反侧的一第一板面与一第二板面；

一上电极层，设置于所述基板的所述第一板面；

一发光单元与一光侦测器，安装于所述上电极层；

一围墙，设置于所述第一板面、并围绕于所述发光单元与所述光侦测器的外侧；

一透光件，设置于所述围墙上；以及

一涂布层，位于所述围墙内侧，涂覆于部分所述第一板面及部分所述上电极层；其中，所述涂布层用来吸收或反射部分自所述发光单元发出并经由所述透光件反射的光线，以收敛所述光侦测器的光电流分布。

2.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述发光单元能用以发出波长介于λ1～λ2的光线，并且所述涂布层所能吸收的光谱范围涵盖λ1～λ2。

3.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述发光单元通过固晶胶层安装于所述上电极层，所述涂布层为进一步覆盖于所述发光单元的至少部分侧面、所述固晶胶层、与所述光侦测器的至少部分侧面。

4.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述涂布层为一吸光层，所述吸光层由光吸收剂和树脂复合物固化后形成，所述树脂复合物固化前的黏度介于600mPa·s～6000mPa·s且触变指数介于1.4～2.5之间，所述吸光层对于波长介于500纳米～950纳米的光线反射率小于10％。

5.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述涂布层为一吸光层，所述吸光层对于所述发光单元所发出光线的反射率是50％以下。

6.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述涂布层为一吸光层，所述吸光层对于所述发光单元所发出光线的反射率是10％以下。

7.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述涂布层进一步限定为一含有红外线吸收剂的涂布层。

8.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述涂布层进一步限定为一高反射率涂层，所述高反射率涂层由光反射颗粒和树脂复合物固化后形成，所述树脂复合物固化前的黏度介于1600mPa·s～3000mPa·s且触变指数介于1.4～2.5之间，所述高反射率涂层对于波长介于500纳米～950纳米的光线反射率大于80％。

9.如权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述围墙由液晶高分子所制成；所述围墙呈环形阶梯状且包含有：

一上阶面，远离所述基板；

一上梯面，相连于所述上阶面的内缘；

一下阶面，位于所述上梯面的内侧，并且所述下阶面与所述第一板面的一距离小于所述上阶面与所述第一板面的一距离；

至少一个收容沟，位于所述下阶面与所述上梯面之间；及

一下梯面，相连于所述下阶面内缘且远离所述上阶面；其中，所述下梯面与所述第一板面包围形成有一容置槽；

其中，所述光源装置包含位于至少一个所述收容沟内的一黏着胶，所述透光件设置于所述下阶面、并与所述上梯面呈间隔设置，所述透光件通过所述黏着胶而固定于所述围墙。