[发明专利]一种蛋白质的表达方法在审
| 申请号: | 202010000237.5 | 申请日: | 2019-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN113121688A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
| 发明(设计)人: | 侯盛;郭怀祖;聂丽;戴建新;寇庚;徐进;郭清城;张存超;黄卫红 | 申请(专利权)人: | 上海百迈博制药有限公司;上海迈泰君奥生物技术有限公司;上海张江生物技术有限公司 |
| 主分类号: | C07K16/28 | 分类号: | C07K16/28;C12P21/02;C12N5/071 |
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| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 蛋白质 表达 方法 | ||
1.一种抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述方法使用无血清、无动物源组分的基础培养基及补充培养基对含有抗PD-L1抗体基因序列的CHO宿主细胞进行培养表达,所述基础培养基为CHOM-B系列的组合培养基,所述补充培养基为CHOM-S系列的组合培养基。
2.根据权利要求1所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述方法的CHO宿主细胞的培养表达包含细胞扩增阶段、灌流培养阶段及补充培养阶段,在细胞扩增和灌流培养阶段使用基础培养基,补充培养阶段使用补充培养基。
3.根据权利要求2所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述CHO宿主细胞灌流培养阶段的条件为:温度为30℃~39℃;基础培养基pH为6.6~7.1;溶氧量30%~60%;每日补充葡萄糖3~5g/L;搅拌转速80~150rpm。
4.根据权利要求3所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述CHO宿主细胞灌流培养阶段的条件为:温度为35.5℃~36.5℃;基础培养基pH为6.8~6.9;溶氧量35%~45%;每日补充葡萄糖3~5g/L;搅拌转速80~150rpm。
5.根据权利要求2所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述CHO宿主细胞补充培养阶段的条件为:在灌流培养培养的第2~4天,降低温度至32℃~34℃,pH为7.0~7.3,添加补充培养基,进行补充培养,每日添加补充培养基的量为上灌体积的1%~5%,补充培养8~18天。
6.根据权利要求5所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述CHO宿主细胞补充培养阶段的条件为:在灌流培养培养的第2~4天,降低温度至32.5℃~33.5℃,pH为7.1~7.2,添加补充培养基,进行补充培养,每日添加补充培养基的量为上灌体积的1%~5%,低温补充培养8~10天。
7.根据权利要求1-6所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述基础培养基为CHOM-B01与CHOM-B02组合、CHOM-B01与CHOM-B03组合、CHOM-B01与CHOM-B02及CHOM-B03组合。
8.根据权利要求7所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述基础培养基为CHOM-B01:CHOM-B02为1:1~1:5,CHOM-B01:CHOM-B03为1:1~1:0.1。
9.根据权利要求8所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述基础培养基为CHOM-B01:CHOM-B02为1:1~1:3。
10.根据权利要求1-6所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述补充培养基为CHOM-S01与CHOM-S03组合、CHOM-S01与CHOM-S04的组合、CHOM-S01与CHOM-S03及CHOM-S04组合。
11.根据权利要求10所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述补充培养基为CHOM-S01:CHOM-S03为1:1~1:0.3,CHOM-S01:CHOM-S04为1:1~1:7。
12.根据权利要求11所述的抗PD-L1抗体的制备方法,其特征在于,所述补充培养基为CHOM-S01:CHOM-S04为1:1~1:4。
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