[发明专利]用于清洁和后处理3D打印光固化有机硅的方法

权利要求书

1.用于后处理3D打印部件的方法，所述方法包括：

A)提供3D打印部件；

B)将所述部件浸入与打印所述部件的材料不相容的第一液体介质中；以及

C)将所述部件暴露于超声波。

2.根据权利要求1所述的方法，其中

-所述3D打印部件采用SLA和/或DLP方法制造；和/或

-步骤B)和/或步骤C)重复一次或多次。

3.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，还包括步骤D)：将在步骤C)之后获得的所述3D打印部件浸入与形成所述部件的材料不相容的第二液体介质中，并且将所述部件暴露于辐射。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述第一和/或第二液体介质选自水和软化水。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中

-步骤C)进行约1秒至约5小时，优选地约30秒至约60分钟，更优选地约5分钟至约45分钟的时间段；和/或

-步骤D)的所述暴露进行约1秒至约24小时，优选地约1分钟至约12小时，更优选地约30分钟至约6小时的时间段。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中

-在步骤A)中，将所述3D打印部件部分地或完全地浸入；和/或

-在步骤C)中，以约15kHz至约40kHz，优选地约20kHz至约40kHz的频率施用超声波；和/或

-在步骤D)中，所述辐射为紫外光或可见光。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，该方法还包括步骤A1)：通过滴干、手动清洁和施用气压中的一种或多种去除过量的未聚合树脂材料。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中打印所述3D打印部件的材料是可辐射固化的有机硅组合物。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述可辐射固化的有机硅组合物包含选自以下的一种或多种添加剂：稳定剂、抑制剂、螯合剂、抗氧化剂、增稠剂、增塑剂、填料、分散稳定剂、受阻胺光稳定剂、紫外吸收剂、遮光剂、颜料和染料。

10.一种三维部件，所述三维部件可采用根据权利要求1至9中任一项的方法获得。

11.一种液体在采用3D打印方法制造的三维部件的后处理中的用途，其中所述液体与打印所述三维部件的材料不相容。

12.根据权利要求11所述的用途，其中

-所述3D打印方法是SLA和/或DLP方法；和/或

-所述材料是可辐射固化的有机硅组合物；和/或

-所述液体选自水和软化水。

13.根据权利要求11或12所述的用途，其中所述后处理包括所述三维物体的清洁、稳定和后固化中的一种或多种。

14.根据权利要求13所述的用途，其中所述清洁、稳定和/或后固化包括将所述三维部件浸入所述液体中。

15.根据权利要求14所述的用途，其中

-所述清洁还包括将浸入的三维部件暴露于超声波；和/或

-所述后固化还包括将所述三维部件暴露于辐射。