[发明专利]具有高弯曲强度的薄玻璃基板及其制备方法

权利要求书

1.一种用于制备结构化玻璃盘(1)的方法，所述方法包括以下步骤：

-提供厚度为至多400μm的玻璃盘(1)，

-将超短脉冲激光器(5)的激光束(50)引导并聚焦到所述玻璃盘(1)上，所述激光束(50)的波长对于所述玻璃盘(1)的玻璃是可穿透的，使得所述激光束(50)能够穿透所述玻璃盘(1)，-所述激光束(50)聚焦以在所述玻璃盘(1)内产生细长焦点(52)，所述激光束(50)的强度足以沿着所述焦点(52)在所述玻璃盘(1)内产生损伤区(7)，-所述激光束(50)相对于所述玻璃盘(1)移动以在所述玻璃盘(1)上沿着至少一个环形路径(55)并肩插入多个损伤区(7)，使得在所述玻璃盘(1)中限定至少一个工件(9)，其中所述环形路径(55)包围所述工件(9)，所述工件保持连接到所述玻璃盘(1)的周围区段，

-通过将所述玻璃盘暴露于蚀刻剂来进行蚀刻，所述蚀刻剂侵入到所述损伤区(7)中，

-在蚀刻之后，化学钢化具有所述至少一个工件(9)的所述玻璃盘(1)。

2.根据前述权利要求所述的方法，其特征在于，将通道中的至少一些通道加宽以至于相邻通道(70)合并，其中所述工件(9)保持连接到所述玻璃盘(1)的周围部分(11)。

3.根据前述权利要求所述的方法，其中，以组的形式引入相邻损伤区(7)，用长度比所述组内损伤区(7)的距离大的间隙中断所述组，使得通过蚀刻引入的所述通道(70)合并以形成沿着所述路径(55)伸长的开口(71)。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述玻璃盘浸入其中的离子交换浴的碱金属离子穿透到所述通道(70)中并且在所述玻璃盘的内部区域中引发所述通道(70)周围的玻璃中的离子交换，内部区域在所述玻璃盘(1)内的比在侧面(2，3)上的离子交换层的深度更深。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其进一步包括将涂层(12)施加到所述玻璃盘(1)的侧面(2，3)中的至少一个侧面上，优选地在化学钢化之后施加所述涂层(12)。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，将所述损伤区(7)引入所述玻璃盘中，使得所述损伤区在所述盘(1)内在侧面(2，3)之间的位置处结束，从而使得形成盲孔形式的通道(70)。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其包括将至少一个聚合物层(15)层压到所述工件(9)。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，蚀刻包括以下步骤中的至少一个步骤：

-在包含HF、H₂SO₄、HCl、NH₄HF₂中的一种或多种的酸性水溶液中进行蚀刻，

-在氢离子浓度小于25mol/L，优选地小于0.1mol/L的酸性溶液中进行蚀刻，

-在包含LiOH、NaOH、KOH中的一种或多种的碱性水溶液中进行蚀刻，

-在OH离子浓度小于25mol/L，优选地小于10mol/L的碱性溶液中进行蚀刻，

-由于蚀刻将所述玻璃盘1的厚度减小0.2μm至10μm。

9.一种采用厚度至多400μm的玻璃板用于制备玻璃制品(10)的方法，所述方法包括以下步骤：

-利用根据前述权利要求中的任一项所述的方法制备结构化的玻璃盘，以及

-从所述玻璃盘(1)分离出化学钢化的工件(9)。