[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法以及程序

说明书

基板处理装置具备：舟皿，其具有多个保持基板的插槽；对由舟皿保持的基板进行处理的处理炉；使舟皿升降的舟皿升降机；移载机，其在保存有基板的载体与舟皿之间移载基板；以及控制器，其构成为能够控制舟皿升降机和移载机。控制器构成为将用于供移载机移载基板的多个位置设定于舟皿升降机，在移载机从多个载体将基板搬入舟皿以成为能够装填至处理炉的状态的动作、以及移载机从舟皿向多个载体搬出由处理炉处理后的基板的动作的各动作中，以使舟皿升降机的多个位置之间的过渡的次数或过渡所需的时间的合计成为最小的方式进行选择。

技术领域

本公开涉及基板处理装置、半导体器件的制造方法以及程序。

背景技术

在专利文献1中公开了基板处理装置，该基板处理装置构成为具备：在用舟皿保持了多张晶片的状态下进行处理的工艺管；在工艺管的正下方对舟皿进行搬入搬出的真空锁室；设于真空锁室的待机部且使舟皿升降的舟皿升降机；与真空锁室连续设置且由门阀开闭的真空预备室；以及设于真空锁室的设置部且在舟皿与真空预备室之间移载晶片的晶片移载装置，晶片移载装置的上下方向上的冲程L₁被设定为比舟皿的晶片保持范围L₂小，冲程的不足量L₃由舟皿升降机的冲程补充。像这样，通过利用舟皿升降机的冲程补充晶片移载装置的冲程的不足量，能够较短地设定晶片移载装置的冲程，能够抑制供晶片移载装置设置的气密室的容积，因此，缩短抽真空时间，提高生产量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2003-163252号公报

发明内容

本公开的目的在于，提供一种在这种情况下能够有效地进行向舟皿搬入搬出晶片的技术。

本公开的一个方面的基板处理装置具备：舟皿，其具有多个保持基板的插槽；对由所述舟皿保持的所述基板进行处理的处理炉；使所述舟皿升降的舟皿升降机；移载机，其在保存有所述基板的载体与所述舟皿之间移载所述基板；以及控制器，其构成为能够控制所述舟皿升降机和所述移载机，所述控制器构成为将用于供所述移载机移载所述基板的多个位置设定于所述舟皿升降机，在所述移载机从多个所述载体将所述基板搬入所述舟皿搬以成为能够装填至所述处理炉的状态的动作、以及所述移载机从所述舟皿向多个所述载体搬出由所述处理炉处理后的所述基板的动作的各动作中，以使所述舟皿升降机的所述多个位置之间的过渡的次数或过渡所需的时间的合计成为最小的方式进行选择。

发明效果

根据本公开，能够提供有效地进行将晶片向舟皿搬入搬出的技术。

其他课题以及新特征可根据本说明书的记述以及附图而变明朗。

附图说明

图1是基板处理装置的横向剖视图的一例。

图2是基板处理装置的纵向剖视图的一例。

图3是控制器的框图。

图4是示出舟皿升降机的位置HOME1、HOME2处的、晶片移载机构与舟皿的位置关系的示意图。

图5是示出在第1位置HOME1、第2位置HOME2的晶片搬运区域的图。

图6是示出任务登录流程的图。

图7是基板移载信息的例。

图8是本实施例中的搬运顺序的例。

图9是比较例中的搬运顺序的例。

图10是示出任务执行流程的图。

具体实施方式

(基板处理装置的概要)