[发明专利]生产卤胺和卤胺溶液的方法

权利要求书

1.用于生产具有减少量的卤多氧阴离子的卤胺溶液的方法，其包括(a)现场产生含卤素的氧化剂溶液，和(b)使现场产生的含卤素的氧化剂与氮源现场反应，由此生产具有减少量的卤多氧阴离子的卤胺溶液。

2.根据权利要求1所述的方法，其中卤胺包括单氯胺(MCA)。

3.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中含卤素的氧化剂溶液包含次卤酸根。

4.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中卤胺溶液包括少于5重量％的卤多氧阴离子。

5.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中氮源为氨、氨溶液或铵盐。

6.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生包括使氯气与碱性溶液反应。

7.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生包括使卤化乙内酰脲化合物与水反应。

8.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生包括氯化钠溶液的电解。

9.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生包括电解产生氯气并且使氯气与苛性碱和水的混合物反应。

10.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中含卤素的氧化剂溶液包含次卤酸根，该次卤酸根为次氯酸根。

11.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中含卤素的氧化剂溶液为具有1-25g/L次氯酸根浓度的稀溶液。

12.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生包括海水或盐水的电解。

13.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中卤胺的现场产生是以单个步骤进行的，其中未在中间上游阶段中使用电解或使电流通过溶液来产生氯气或次氯酸根溶液。

14.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中将现场产生的溶液在不储存的情况下直接进料到卤胺产生器中并与氮源反应。

15.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中将现场产生的次氯酸根或次卤酸根溶液积蓄到中间罐中达最多24小时，和然后进料到氯胺产生器并与氮源反应。

16.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中将现场产生的次卤酸根溶液立即用于生产卤胺，由此消除包含多于一个氧原子的卤氧阴离子的形成。

17.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生不使用电解。

18.根据以上权利要求任一项所述的方法，其中所述现场产生包括使非产自现场电解产生器的氯气与碱性溶液反应。

19.氯胺溶液，其通过以上权利要求任一项所述的方法获得。

20.氯胺溶液，其包括少于1重量％的包含多于一个氧原子的卤氧阴离子。

21.包含单氯胺(MCA)的溶液，其不含卤多氧阴离子。

22.卤胺溶液，其不包含可测出量的卤多氧阴离子。

23.根据权利要求19-22任一项所述的溶液作为杀生物剂的用途。