[发明专利]显示装置及用于制造显示装置的方法在审

专利信息
申请号: 201980089117.2 申请日: 2019-11-25
公开(公告)号: CN113302743A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 都永洛;柳康烈 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/38;H01L33/62;H01L33/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;刘铮
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 用于 制造 方法
【权利要求书】:

1.显示装置,包括:

基板;

第一电极,设置在所述基板上;

第二电极,设置在所述基板上,并且与所述第一电极间隔开且面对所述第一电极;

发光元件,设置在所述第一电极和所述第二电极之间;

第一导电接触图案,设置在所述第一电极上以接触所述发光元件的一端和所述第一电极;以及

第二导电接触图案,设置在所述第二电极上以接触所述发光元件的另一端和所述第二电极。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中:

所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案分别直接设置在所述第一电极和所述第二电极上;以及

所述第一导电接触图案和所述第一电极重叠的区域以及所述第二导电接触图案和所述第二电极重叠的区域中没有插置绝缘材料层。

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述第一电极、所述第二电极、所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案在相同的方向上延伸。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案在宽度方向上分别覆盖所述第一电极和所述第二电极。

5.根据权利要求3所述的显示装置,其中:

所述第一导电接触图案包括设置在所述第一电极的在宽度方向上的一个边缘上的第一一侧导电接触图案以及设置在所述第一电极的在所述宽度方向上的另一边缘上并且与所述第一一侧导电接触图案分开的第一另一侧导电接触图案;以及

所述第二导电接触图案包括设置在所述第二电极的在所述宽度方向上的一个边缘上的第二一侧导电接触图案以及设置在所述第二电极的在所述宽度方向上的另一边缘上并且与所述第二一侧导电接触图案分开的第二另一侧导电接触图案。

6.根据权利要求1所述的显示装置,其中:

所述第一电极包括第一电极杆部分和从所述第一电极杆部分分支的第一电极分支部分;

所述第二电极包括第二电极杆部分和从所述第二电极杆部分分支的第二电极分支部分;以及

所述发光元件设置在所述第一电极分支部分和所述第二电极分支部分之间。

7.根据权利要求6所述的显示装置,其中:

所述显示装置包括多个像素;

所述第一电极包括像素电极,所述像素电极被划分并设置在所述多个像素中的每个中;以及

所述第二电极包括沿所述多个像素设置的公共电极。

8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案中的每个的表面粗糙度大于所述第一电极和所述第二电极中的每个的表面粗糙度。

9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案中的每个的侧表面的倾斜角小于所述第一电极和所述第二电极中的每个的侧表面的倾斜角。

10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案中的每个的厚度的范围为10nm至10μm,并且所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案中的每个的线宽的范围为1μm至30μm。

11.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一导电接触图案和所述第二导电接触图案中的每个包括烧结的银(Ag)。

12.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述发光元件具有在一个方向上延伸的形状,并且包括第一导电类型半导体、第二导电类型半导体以及设置在所述第一导电类型半导体和所述第二导电类型半导体之间的有源层。

13.根据权利要求12所述的显示装置,其中,所述发光元件的长度的范围为10nm至10μm,并且所述发光元件的纵横比的范围为1.2至100。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980089117.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top