[发明专利]量测传感器、照射系统、和产生具有能够配置的照射斑直径的测量照射的方法

权利要求书

1.一种用于将非相干辐射传递至量测传感器系统的照射系统，所述照射系统包括：

空间滤波系统，所述空间滤波系统用于对所述非相干辐射的束进行选择性空间滤波；和

至少一个光导，所述至少一个光导用于将被空间滤波后的非相干辐射的束引导至所述量测传感器系统，所述至少一个光导使得所引导的辐射具有与入射角大致类似的出射角。

2.根据权利要求1所述的照射系统，其中，所述空间滤波系统包括至少一个孔，所述至少一个孔具有能够选择的尺寸以用于实施所述选择性空间滤波。

3.根据权利要求2所述的照射系统，其中，所述至少一个孔是具有能够选择的直径的大致圆形。

4.根据权利要求3所述的照射系统，其中，所述空间滤波系统包括具有不同尺寸的多个所述孔，通过选择所述孔中的一个孔来实施所述选择性空间滤波以对非相干辐射的所述束进行滤波。

5.根据权利要求2或3所述的照射系统，其中，所述空间滤波系统包括单个孔，所述单个孔具有能够配置的尺寸以用于实施所述选择性空间滤波。

6.根据任一前述权利要求所述的照射系统，包括聚焦光学元件，所述聚焦光学元件用于将被空间滤波后的非相干辐射的束作为具有第一半锥角的入射锥体聚焦到所述至少一个光导的入射端上，使得所引导的辐射的所得到的出射锥体具有所述第一半锥角。

7.根据任一前述权利要求所述的照射系统，包括平行化光学元件，所述平行化光学元件用于限定所述空间不相干辐射的平行束，使得所述空间滤波系统对非相干辐射的所述平行束进行空间滤波以实施所述选择性空间滤波。

8.根据任一前述权利要求所述的照射系统，包括用于产生所述非相干辐射的照射源。

9.根据任一前述权利要求所述的照射系统，其中，所述至少一个光导包括多模光纤。

10.一种量测传感器系统，包括：

模块壳体，所述模块壳体包含量测传感器系统光学器件；和

根据任一前述权利要求所述的照射系统，所述照射系统用于对非相干入射辐射进行空间滤波且将所述非相干入射辐射传递至所述模块壳体；其中，

所述照射系统的至少所述空间滤波系统被包括在所述模块壳体外部；并且

所述量测传感器系统是能操作的以从所述非相干入射辐射产生测量照射，所述测量照射的照射斑直径依赖于由所述空间滤波系统进行的所述选择性空间滤波。

11.一种量测传感器系统，包括：

模块壳体，所述模块壳体包含包括物镜的量测传感器系统光学器件；和

根据权利要求1至9中任一项所述的照射系统，所述照射系统用于对非相干入射辐射进行空间滤波且将所述非相干入射辐射传递至所述模块壳体；其中，

所述照射系统的至少所述空间滤波系统被包括在所述模块壳体外部；并且

所述量测传感器系统是能操作的以从所述非相干入射辐射产生测量照射，所述物镜的照射数值孔径依赖于由所述空间滤波系统进行的所述选择性空间滤波。

12.根据权利要求10或11所述的量测传感器系统，其中，所述量测传感器系统被实施为用于测量光刻设备内的对准的对准传感器系统。

13.根据权利要求11或12所述的量测传感器系统，其中，所述量测传感器系统被实施为用于测量使用光刻设备形成的结构的一个或更多个过程参数的过程监测传感器系统。

14.一种光刻设备，包括根据权利要求11至13中任一项所述的量测传感器系统。