[发明专利]可喷涂的有机硅聚合物分散体

权利要求书

1.一种可喷涂聚合物分散体，其包含：

(a)室温硫化(RTV)有机硅聚合物；

(b)聚硅氧烷；

(c)隔热剂；以及

(d)有机载剂，其中组分(a)、(b)和(c)悬浮于所述有机载剂中。

2.根据权利要求1所述的分散体，其中所述有机载剂(d)包含溶剂的掺合物，其中所述溶剂为甲基乙基酮、甲基戊基酮、二甲苯、甲苯、矿油精、乙酸甲酯、环己烷、碳酸二甲酯和/或对氯三氟甲苯。

3.根据权利要求1所述的分散体，其中所述隔热剂包含微球体。

4.根据权利要求3所述的分散体，其中所述微球体包含钝化剂。

5.根据权利要求1所述的分散体，其进一步包含除组分(a)到(d)之外的选自以下各者的钝化剂：氧化镁、磷酸锌、金属改性的磷酸锌、金属改性的磷硅酸盐和/或金属改性的硼硅酸盐，其中所述金属包含钙、钡、锶、钼、镁和/或铝。

6.根据权利要求1所述的分散体，其中所述聚硅氧烷基本上不含苯基。

7.根据权利要求1所述的分散体，其中所述聚硅氧烷完全不含苯基。

8.一种在衬底上产生涂层的方法，其包含将根据权利要求1所述的分散体喷涂到衬底的至少一部分上，并且固化每个组分(a)和(b)以在所述衬底上形成整体涂层。

9.根据权利要求8所述的方法，其中通过在所述衬底上方一次性喷涂所述分散体以产生至少100密耳厚的涂层来产生所述整体涂层。

10.根据权利要求8所述的方法，其中通过在所述衬底上方一次性喷涂所述分散体以产生至少500密耳厚的涂层来产生所述整体涂层。

11.根据权利要求9所述的方法，其中将所述分散体直接喷涂到所述衬底上，在所述衬底和所述分散体之间不存在涂层或处理层。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述RTV聚合物包含单一组分。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述RTV聚合物由包含粘合剂组分和交联组分的两部分反应混合物产生。

14.一种涂层，其由根据权利要求1所述的聚合物分散体形成。

15.根据权利要求14所述的涂层，其中所述涂层至少部分固化。

16.一种衬底，其至少部分地涂有根据权利要求1所述的分散体或由其形成的涂层。

17.根据权利要求16所述的衬底，其中所述分散体以整体涂层形式进行湿式固化。

18.根据权利要求16所述的衬底，其中所述衬底为金属。

19.一种工业加工组件，其包含根据权利要求16所述的衬底。

20.根据权利要求19所述的工业加工组件，其中所述组件包含反应器、排气烟囱、重整器、蒸馏塔、管道、阀门、热交换器、锅炉或储罐。