[发明专利]具有改善的击穿强度的双轴取向聚丙烯膜

权利要求书

1.一种双轴取向聚丙烯膜，优选用于以连续方法生产，其包含聚丙烯组合物，其中所述聚丙烯组合物包含

(i)基于所述聚丙烯组合物的总重量，90至99.99重量％的丙烯均聚物，所述丙烯均聚物具有93％至98％的全同立构五单元组级分含量和0.4至10g/10min的熔体流动速率MFR₂，和

(ii)基于所述聚丙烯组合物的总重量，0.0000001至1重量％的聚合物α-成核剂，

其中所述双轴取向聚丙烯膜

-具有至少595kV/mm的介电击穿场强Eb63.2，其基于在厚度为3.8–4.2μm的膜上使用250V/s的DC电压斜变速率用2.84cm²的有效电极面积测量的50个结果，作为拟合双参数威布尔分布的尺度参数α获得，和

-具有2至5μm的厚度，其中进一步同时在纵向和横向拉伸所述膜。

2.根据权利要求1所述的双轴取向聚丙烯膜，其中

所述聚丙烯组合物还包含

(iii)基于所述聚丙烯组合物的总重量，至多9.99重量％的除了所述丙烯均聚物(i)以外的丙烯均聚物或共聚物。

3.根据权利要求1或2所述的双轴取向聚丙烯膜，其中

所述聚丙烯组合物还包含

(iv)基于所述聚丙烯组合物的总重量，0.01至1重量％的常规添加剂。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜，

其中所述聚丙烯组合物的灰分含量不超过30ppm和/或在TD或MD上的拉伸比为至少8.0，优选8.0至20.0，进一步优选9.0至15.0。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜，其中所述聚合物α-成核剂选自由聚乙烯基环己烷、聚(3-甲基-1-丁烯)及其混合物组成的组。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜，其中所述常规添加剂选自抗氧化剂、稳定剂、酸清除剂及其混合物。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜，

其中所述膜包含由所述聚丙烯组合物组成的层和/或所述膜的厚度在＞2至＜5μm之间，优选＞2至4.5μm或3至5μm，优选3.5至4.5μm。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜，其中所述膜还包含金属层。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜，其具有至少535kV/mm的介电击穿场强Eb10.0。

10.一种包含绝缘膜的电容器，所述绝缘膜包含根据权利要求1至9中任一项所述的双轴取向聚丙烯膜的层。

11.一种用于生产双轴取向聚丙烯膜的方法，其包含以下步骤：

(A)提供聚丙烯组合物，所述聚丙烯组合物包含

(i)基于所述聚丙烯组合物的总重量，90至99.99重量％的丙烯均聚物，所述丙烯均聚物具有93％至98％的全同立构五单元组级分含量和0.4至10g/10min的熔体流动速率MFR₂，和

(ii)基于所述聚丙烯组合物的总重量，0.0000001至1重量％的聚合物α-成核剂，

(B)将所述聚丙烯组合物挤出成平膜，

(C)将所述平膜同时在纵向和横向上取向以获得所述双轴取向聚丙烯膜，和

(D)回收所述双轴取向聚丙烯膜。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述聚丙烯组合物还包含

(iii)基于所述聚丙烯组合物的总重量，至多9.99重量％的除了所述丙烯均聚物(i)以外的丙烯均聚物或共聚物。