[发明专利]改性粒子的制造方法、改性粒子、分散液、组合物以及层叠体

权利要求书

1.一种改性粒子的制造方法，其通过对体积基准累积50％径为0.01～100μm的四氟乙烯类聚合物母粒进行表面处理，从而获得向该母粒导入极性基团而成的改性粒子。

2.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述表面处理为等离子体处理或电晕处理。

3.如权利要求2所述的制造方法，其中，在含有选自氩气、氦气和氧气的至少1种的气氛下，对所述母粒进行等离子体处理。

4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述四氟乙烯类聚合物相对于该聚合物中所含的所有单元包含99.5摩尔％以上的基于四氟乙烯的单元。

5.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述四氟乙烯类聚合物相对于该聚合物中所含的所有单元包含大于0.5摩尔％的基于四氟乙烯以外的共聚单体的单元。

6.如权利要求1～5中任一项所述的制造方法，其中，所述四氟乙烯类聚合物具有选自含羰基基团、羟基、环氧基、氧杂环丁烷基、氨基、氰基和异氰酸酯基的至少1种官能团。

7.如权利要求1～6中任一项所述的制造方法，其中，所述四氟乙烯类聚合物是熔点为260～320℃的热熔融性聚合物。

8.一种改性粒子，其为对体积基准累积50％径为0.01～100μm的四氟乙烯类聚合物母粒进行表面处理而得的改性粒子，

该改性粒子具有导入到所述母粒中的极性基团，其ζ电位小于所述母粒的ζ电位。

9.如权利要求8所述的改性粒子，其中，所述四氟乙烯类聚合物具有选自含羰基基团、羟基、环氧基、氧杂环丁烷基、氨基、氰基和异氰酸酯基的至少1种官能团。

10.如权利要求8或9所述的改性粒子，其中，将所述母粒的ζ电位记为X、刚进行所述表面处理后的所述改性粒子的ζ电位记为Y₀时，Y₀/X为1.3以上。

11.如权利要求8～10中任一项所述的改性粒子，其中，将刚进行所述表面处理后的所述改性粒子的ζ电位记为Y₀、从完成所述表面处理时起在25℃下经过30天后的所述改性粒子的ζ电位记为Y₃₀时，Y₃₀/Y₀为0.8以上。

12.如权利要求8～11中任一项所述的改性粒子，其中，将100g该改性粒子分散在100g水中以配制分散液，使在25℃下经过30天后的所述分散液通过JIS Z 8801-1：2006的200目筛子时，残留在该筛子上的残留物的量为5g以下。

13.一种分散液，其包含权利要求8～12中任一项所述的改性粒子以及液态介质，所述改性粒子分散在所述液态介质中。

14.一种组合物，其包含权利要求8～12中任一项所述的改性粒子以及与所述四氟乙烯类聚合物不同的其他聚合物，所述改性粒子分散在该其他聚合物中。

15.一种层叠体，其具有基材以及设置在该基材表面的由权利要求8～12中任一项所述的改性粒子所形成的层。