[发明专利]用于光学处理样本的系统和方法

权利要求书

1.一种用于处理样本的系统，该系统包括：

腔室，其具有至少一个入口和至少一个出口，其中该腔室被配置为容纳从所述至少一个入口朝着所述至少一个出口的样本流；以及

成像器阵列，被配置为对腔室中的样本流进行成像，其中该成像器阵列包括能够接近至少一个光源地配置的至少一个无透镜图像传感器。

2.如权利要求1所述的系统，其中腔室被配置为容纳二维样本流。

3.如权利要求2所述的系统，其中成像器阵列包括无透镜图像传感器的二维阵列。

4.如权利要求1所述的系统，其中腔室包括第一表面和从第一表面偏移的第二表面，其中第一表面和第二表面中的至少一个包括光学透明材料。

5.如权利要求4所述的系统，其中第一结构和第二结构中的至少一个是通过平面处理形成的。

6.如权利要求4所述的系统，其中第一表面和第二表面被配置为使样本的至少一部分变平。

7.如权利要求4所述的系统，还包括部署在第一表面和第二表面之间的多个间隔件。

8.如权利要求1所述的系统，其中该系统还包括光源，成像器阵列和光源跨腔室彼此相对。

9.如权利要求8所述的系统，其中成像器阵列被嵌入在具有与腔室相邻的第一光学透明部分的第一结构中，并且光源被嵌入在具有与腔室相邻的第二光学透明部分的第二结构中。

10.如权利要求9所述的系统，其中第一结构和第二结构中的至少一个包括光学透明层的层压堆叠。

11.如权利要求8所述的系统，其中光源被配置为发射可见光。

12.如权利要求11所述的系统，其中成像器阵列被配置为生成样本流的阴影图像。

13.如权利要求8所述的系统，其中光源被配置为发射紫外光，并且成像器阵列被配置为生成样本流的荧光图像。

14.如权利要求4所述的系统，其中第一结构和第二结构一体地形成。

15.如权利要求1所述的系统，其中样本包括至少一个POD。

16.如权利要求15所述的系统，其中所述至少一个POD包括分析物。

17.如权利要求16所述的系统，其中分析物包括由以下各项组成的组中的至少一种：细胞、DNA、RNA、核苷酸、蛋白质和酶。

18.如权利要求15所述的系统，其中所述至少一个POD不包括分析物。

19.一种用于处理样本的系统，该系统包括：

腔室，其至少部分地由第一结构和与第一结构相对的第二结构限定，其中第一结构和第二结构中的每一个具有光学透明的至少一部分；

至少一个光源，被嵌入在第一结构中并且被配置为朝着腔室发射光；以及

成像器阵列，被嵌入在第二结构中并且被配置为对腔室进行成像，其中成像器阵列包括至少一个无透镜图像传感器。

20.如权利要求19所述的系统，其中腔室被配置为在至少一个入口和至少一个出口之间容纳二维样本流。

21.如权利要求20所述的系统，其中腔室被配置为使样本的至少一部分变平。

22.如权利要求20所述的系统，其中成像器阵列包括无透镜图像传感器的二维阵列。