[发明专利]聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜在审
申请号: | 201980077586.2 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN113166411A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 安孙子洋平;星野舜;村谷孝博;关口慎司;高田贵文 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚酰亚胺 树脂 清漆 薄膜 | ||
一种聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B,结构单元A包含选自由源自下述式(a‑1‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1‑1)及源自下述式(a‑1‑2)所示的化合物的结构单元(A‑1‑2)组成的组中的至少一种结构单元(A‑1),结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1)和结构单元(B‑2),所述结构单元(B‑2)为选自由源自下述式(b‑2‑1)所示的化合物的结构单元(B‑2‑1)、源自下述式(b‑2‑2)所示的化合物的结构单元(B‑2‑2)、源自下述式(b‑2‑3)所示的化合物的结构单元(B‑2‑3)、源自下述式(b‑2‑4)所示的化合物的结构单元(B‑2‑4)、及源自下述式(b‑2‑5)所示的化合物的结构单元(B‑2‑5)组成的组中的至少一种,结构单元B中的结构单元(B‑1)的比率为70摩尔%以上。(式(b‑2‑2)中,R分别独立地为氢原子、氟原子或甲基,式(b‑2‑4)中,R1~R4分别独立地为一价的脂肪族基团或一价的芳香族基团,Z1及Z2分别独立地为二价的脂肪族基团或二价的芳香族基团,r为正整数。)
技术领域
本发明涉及聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。
背景技术
正在研究聚酰亚胺树脂在电气/电子部件等领域中的各种利用。例如,以装置的轻量化、挠性化为目的,期望用塑料基板代替液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板,正在进行适于作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜的研究。
图像显示装置中,由显示元件发出的光通过塑料基板射出时,对塑料基板要求无色透明性,进而,光通过相位差薄膜、偏光板时(例如,液晶显示器、触摸面板等),除无色透明性外,还要求光学各向同性高(即,Rth低)。
为了满足像上述的要求性能,进行了各种聚酰亚胺树脂的开发。例如,作为提供无色透明且Rth低、韧性优异的聚酰亚胺薄膜的聚酰亚胺树脂,专利文献1记载了将3,3’-二氨基二苯基砜(第一二胺)和4,4’-二氨基二苯基砜等特定的二胺(第二二胺)的组合用于二胺成分而制造的聚酰亚胺树脂。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2016/158825号
发明内容
然而,为了使聚酰亚胺薄膜适于基板,不仅是无色透明性及光学各向同性,而且耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)也是重要的物性。
例如,为了在聚酰亚胺薄膜上形成其他树脂层(例如,滤色片、抗蚀层)而将该树脂层形成用的清漆涂布在聚酰亚胺薄膜上时,对聚酰亚胺薄膜要求对于该清漆中包含的溶剂的耐性。聚酰亚胺薄膜的耐溶剂性不充分时,有由于薄膜的溶解、溶胀导致其失去作为基板的意义的担忧。
另外,将聚酰亚胺薄膜用作ITO(Indium Tin Oxide)膜形成用的基板时,对聚酰亚胺薄膜要求对于ITO膜的蚀刻中使用的酸的耐性。聚酰亚胺薄膜的耐酸性不充分时,有薄膜黄变而无色透明性受损的担忧。
另外,制造聚酰亚胺薄膜时使用的玻璃板等支撑体(涂布聚酰亚胺清漆的支撑体)的清洗中,主要使用氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液等碱水溶液。基于碱水溶液的清洗有可能也以在玻璃板等支撑体上制膜有聚酰亚胺薄膜的状态进行。因此,聚酰亚胺薄膜还要求对于碱的耐性。
然而,专利文献1中,未对耐化学药品性进行评价。
本发明是鉴于这样的状況而做出的,本发明的课题在于提供:能够形成无色透明性、光学各向同性、及耐化学药品性(耐溶剂性、耐酸性及耐碱性)优异的薄膜的聚酰亚胺树脂、以及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜。
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