[发明专利]激光退火装置

权利要求书

1.一种激光退火装置，其对非晶硅膜的要进行改性的改性预定区域照射激光来使所述改性预定区域生长为晶化硅膜以进行改性，其中，

所述激光退火装置具备：

激光光源部，其振荡出第一激光和第二激光；以及

激光束照射部，其使从所述激光光源部振荡出的激光向所述非晶硅膜的表面选择性地照射，

所述激光退火装置进行第一照射和第二照射，

在所述第一照射中，将从所述激光光源部振荡出的所述第一激光向所述非晶硅膜照射来形成籽晶区域；

在所述第二照射中，使从所述激光光源部振荡出的所述第二激光以所述籽晶区域为起点来使向所述非晶硅膜的表面照射的所述第二激光的光束点以包罗所述改性预定区域内的方式移动，从而使所述改性预定区域内的所述非晶硅膜改性成为所述晶化硅膜。

2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其中，

所述改性预定区域是薄膜晶体管的沟道层区域。

3.根据权利要求1或2所述的激光退火装置，其中，

所述第一照射设定为使所述非晶硅膜作为籽晶发生微晶化的条件的能量，

所述第二激光是连续振荡激光，所述第二照射使连续振荡激光连续照射。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的激光退火装置，其中，

所述激光光源部具备振荡出连续振荡激光的光源，在进行所述第一照射时，对从所述光源连续振荡出的激光进行脉冲化来振荡出所述第一激光，在进行所述第二照射时，将从所述光源振荡出的连续振荡激光直接振荡出来。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的激光退火装置，其中，

所述激光光源部具备彼此不同的光源，

所述第一照射和所述第二照射使用彼此不同的光源。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的激光退火装置，其中，

所述改性预定区域是矩形形状，

所述第一照射沿着所述改性预定区域中的彼此平行的一对边中的一边来形成一列的所述籽晶区域，

所述第二照射使所述第二激光的光束点以所述一列的所述籽晶区域为起点而朝向所述改性预定区域中的彼此对置的所述一对边中的另一边移动。

7.根据权利要求1～5中任一项所述的激光退火装置，其中，

所述改性预定区域是矩形形状，

所述第一照射在所述改性预定区域中的一个角部形成所述籽晶区域，

所述第二照射使所述第二激光的光束点以形成于所述角部的所述籽晶区域为起点，从包含所述一个角部在内的边到与包含所述一个角部在内的边彼此平行的一对边中的另一边为止，呈锯齿状地移动。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的激光退火装置，其中，

所述激光束照射部具备空间光调制器，所述空间光调制器使从所述激光光源部振荡出的激光选择性地反射而使激光束向所述改性预定区域内选择性地照射。

9.根据权利要求8所述的激光退火装置，其中，

所述空间光调制器构成为多个微反射镜呈矩阵状配置，所述空间光调制器以能够将所述微反射镜分别独立地切换为向所述非晶硅膜的表面照射激光束的照射状态和非照射状态的方式被选择驱动。

10.根据权利要求9所述的激光退火装置，其中，

在所述空间光调制器与所述非晶硅膜之间配置有投影透镜，

所述空间光调制器设置成能够绕着所述投影透镜的光轴或者铅垂轴进行旋转，

所述空间光调制器能够沿着使来自所述微反射镜的激光束的投影区域在所述改性预定区域内成为稠密的朝向位移，以便在使所述第二激光的光束点移动时不反映出所述微反射镜彼此的间隙。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的激光退火装置，其中，

从多晶硅膜、类单晶硅膜中选择所述晶化硅膜。