[发明专利]双轴取向热塑性树脂膜有效

专利信息
申请号: 201980075895.6 申请日: 2019-11-08
公开(公告)号: CN113056360B 公开(公告)日: 2023-04-11
发明(设计)人: 千代敏弘;铃木维允;东大路卓司 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: B29C55/14 分类号: B29C55/14;G11B5/73;G11B5/84;C08J5/18;H01G13/00;B29K667/00;B29L7/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 马妮楠;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 取向 塑性 树脂
【说明书】:

通过至少一面的表面满足以下(1)、(2)的双轴取向热塑性树脂膜,从而提供具有良好的平滑性和卷绕性的双轴取向热塑性树脂膜。(1)在将通过非接触光学式粗糙度测定而测得的高度10nm以上的突起密度设为A(个/mm2)的情况下,A为2.0×103以上且2.5×104以下。(2)在将通过原子力显微镜(AFM:Atomic Force Microscope)测定而测得的高度1nm以上且小于10nm的突起密度设为B(个/mm2)的情况下,B为1.8×106以上且1.0×107以下。

技术领域

本发明涉及具有粗大突起并且在基底部具有微细突起的双轴取向热塑性树脂膜。

背景技术

热塑性树脂由于其加工性良好,因此在各种工业领域中被利用。此外,将这些热塑性树脂加工为膜状的制品在工业用途、光学制品用途、包装用途、磁记录带用途等如今的生活中发挥重要的作用。近年来,在电子信息设备中,小型化、高集成化进展,与此相伴,对电子信息设备的制作所使用的膜要求加工性的提高。特别是,在电子信息设备的制作时,多采用使其它原材料叠层在膜表面,连同膜一起实施光致抗蚀剂等光学加工的方法。因此,为了提高膜的光学加工性,一般的手段的是,在保持膜的透明性的同时,提高膜表面的平滑性,从而减少加工所使用的抗蚀剂用激光因为膜表面的凹凸形状而发生光散射。此外,在磁记录带用途中也随着记录数据的高密度化,要求通过提高膜表面的平滑性,从而将与读取头的距离保持均匀,使错误噪声的发生减少。特别是在涂布型磁记录带用途中在作为支持体而使用的膜的仅一面粗糙的情况下,存在在卷状卷绕时在较平滑的相反面(磁记录层面)侧产生形状转印缺陷(以下,有时称为转印缺陷),使磁记录层面的平滑性降低的课题。

一般而言,在膜中为了确保卷绕/输送性而含有粒子。通过使粒子的含量减少、或将含有的粒子的粒径小径化从而可以提高膜的平滑性,此外防止上述转印缺陷。然而,其另一方面,在进行膜制造/加工时的卷绕工序中不存在突起高度高的突起部,因此有时在膜间混入的空气不排出,浮起的部分成为褶皱,品质降低。

对于这样的课题,例如在专利文献1中公开了不使膜含有粒子,而通过使用添加剂来使表面粗糙的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2016-221853号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而,在使用添加剂的情况下,虽然可以通过添加剂的含有浓度将表面粗糙度均匀地控制,但产生来源于添加剂的粗大异物从而平滑性大幅降低成为课题。

本发明人等进行了深入研究,结果判明,为了解决上述课题,通过控制膜表面的形状,以不产生转印缺陷的程度局部具有突起高度高的突起,同时使突起高度低的突起共存,从而可以兼有平滑性和卷绕性(以下,有时称为排气性)。本发明鉴于上述情况,其目的是提供具有良好的平滑性和卷绕性的双轴取向热塑性树脂膜。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题,本发明采用以下构成。即,

[I]一种双轴取向热塑性树脂膜,其至少一面的表面满足以下的(1)、(2)。

(1)在将通过非接触光学式粗糙度测定而测得的高度10nm以上的突起的个数设为A(个/mm2)的情况下,A为2.0×103以上且2.5×104以下。

(2)在将通过原子力显微镜(AFM:Atomic Force Microscope)测定而测得的高度1nm以上且小于10nm的突起的个数设为B(个/mm2)的情况下,B为1.8×106以上且1.0×107以下。

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