[发明专利]用于掩模版位置和力的实时检测的传感器阵列在审

专利信息
申请号: 201980073826.1 申请日: 2019-10-29
公开(公告)号: CN112969972A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: R·V·古纳瓦尔达那;V·A·佩雷斯-福尔肯;S·L·史密斯;M·A·基耶达;E·J·芒可曼;A·布朗 申请(专利权)人: ASML控股股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王益
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 模版 位置 实时 检测 传感器 阵列
【权利要求书】:

1.一种夹持设备,包括:

夹具;

传感器,所述传感器设置在所述夹具的前侧上,其中所述传感器被配置成在掩模版交换过程期间检测掩模版在掩模版交换区域中的位置,其中所述掩模版的所述位置包括所述掩模版的后侧与所述夹具的所述前侧之间的竖直距离、以及所述掩模版的所述后侧与所述夹具的所述前侧之间的相对倾角;以及

控制器,所述控制器联接至所述传感器且被配置成基于由所述传感器检测的所述掩模版的所述位置来控制所述夹具的位置。

2.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述控制器被配置成实时地校正所述掩模版的所述后侧与所述夹具的所述前侧之间的竖直距离偏移和相对倾角偏移。

3.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述控制器被配置成控制掩模版平台以允许所述夹具进行顺应性移动,直到所述夹具的所述前侧和所述掩模版的所述后侧接触且共面为止。

4.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述控制器被配置成减小所述掩模版与所述夹具之间的接触力且使所述掩模版与所述夹具之间的粒子产生最小化。

5.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述控制器被配置成:

以第一速度移动掩模版平台,直到所述传感器检测到所述掩模版的所述位置为止;和

以第二速度移动所述掩模版平台,所述第一速度大于所述第二速度。

6.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述传感器是电容式的且包括平面电极。

7.根据权利要求1所述的夹持设备,其中:

所述传感器是光学的且包括光源和光检测器;和

所述光源相对于所述夹具的所述前侧成锐角地指向所述掩模版的所述后侧。

8.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述传感器被加压且包括气压计。

9.根据权利要求1所述的夹持设备,其中所述传感器包括多个传感器阵列。

10.一种夹持设备,包括:

夹具;

传感器,所述传感器设置在所述夹具的前侧上,其中所述传感器被配置成在掩模版交换过程期间检测所述掩模版在掩模版交换区域中的力,其中所述掩模版的所述力包括来自所述掩模版的后侧或所述夹具的所述前侧的应力或应变;以及

控制器,所述控制器联接至所述传感器且被配置成基于由所述传感器检测的所述掩模版的所述力来控制所述夹具的位置。

11.根据权利要求10所述的夹持设备,其中所述控制器被配置成实时地校正来自所述掩模版的所述后侧或所述夹具的所述前侧的应力或应变。

12.根据权利要求10所述的夹持设备,其中所述控制器被配置成控制掩模版平台以允许所述夹具进行顺应性移动,直到所述夹具的所述前侧和所述掩模版的所述后侧接触且共面为止。

13.根据权利要求10所述的夹持设备,其中所述传感器是电阻式的且包括平面应变计。

14.根据权利要求10所述的夹持设备,其中所述传感器是电阻式的且包括以光刻方式图案化的电阻器,所述电阻器被配置成与所施加的压力成比例地改变电阻。

15.一种板设备,包括:

板,所述板包括掩模版交换端口;

传感器,所述传感器设置在所述掩模版交换端口中,其中所述传感器被配置成在掩模版交换过程期间检测掩模版在掩模版交换区域中的位置,其中所述掩模版的所述位置包括所述掩模版的后侧与所述传感器的固定平面之间的竖直距离以及所述掩模版的所述后侧与所述传感器的所述固定平面之间的相对倾角;以及

控制器,所述控制器联接至所述传感器且被配置成基于由所述传感器检测的所述掩模版的所述位置来控制夹具的位置。

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