[发明专利]用于在成形DC脉冲等离子体处理装置中的边缘环控制的电路在审

专利信息
申请号: 201980073809.8 申请日: 2019-09-18
公开(公告)号: CN112997270A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 崔琳锳;J·罗杰斯 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67;H01L21/687;H01L21/3065
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 成形 dc 脉冲 等离子体 处理 装置 中的 边缘 控制 电路
【权利要求书】:

1.一种基板支撑设备,包括:

主体,所述主体包括:

基板支撑部分,所述基板支撑部分具有嵌入在所述基板支撑部分中的基板电极,所述基板电极用于施加基板电压至基板;以及

边缘环部分,所述边缘环部分设置为与所述基板支撑部分相邻,所述边缘环部分具有嵌入在所述边缘环部分中的边缘环电极,所述边缘环电极用于施加边缘环电压至边缘环;

边缘环电压控制电路,所述边缘环电压控制电路耦合到所述边缘环电极;以及

基板电压控制电路,所述基板电压控制电路耦合至所述基板电极,其中所述边缘环电压控制电路和所述基板电压控制电路独立地可调谐,以在所述边缘环电压与所述基板电压之间产生电压差。

2.如权利要求1所述的设备,其中所述边缘环电压控制电路和所述基板电压控制电路是相同的电路。

3.如权利要求1所述的设备,其中所述边缘环电压控制电路和所述基板电压控制电路彼此不同。

4.如权利要求1所述的设备,进一步包括绝缘体,所述绝缘体设置在所述边缘环部分与所述基板支撑部分之间。

5.一种处理腔室设备,包括:

腔室主体;

盖,所述盖设置在所述腔室主体上;

电感耦合等离子体设备,所述电感耦合等离子体设备设置在所述盖上方;以及

基板支撑组件,所述基板支撑组件定位在所述腔室主体内,所述基板支撑组件具有主体,所述主体包括:

基板支撑部分,所述基板支撑部分具有嵌入在所述基板支撑部分中的基板电极,所述基板电极用于施加基板电压;以及

边缘环部分,所述边缘环部分设置为与所述基板支撑部分相邻,所述边缘环部分具有嵌入在所述边缘环部分中的边缘环电极,所述边缘环电极用于施加边缘环电压至边缘环;

边缘环电压控制电路,所述边缘环电压控制电路耦合到所述边缘环电极;以及

基板电压控制电路,所述基板电压控制电路耦合至所述基板电极,其中所述边缘环电压控制电路和所述基板电压控制电路独立地可调谐,以在所述边缘环电压与所述基板电压之间产生电压差。

6.如权利要求1或权利要求5所述的设备,进一步包括:

第一成形DC脉冲电压源,所述第一成形DC脉冲电压源并联耦合到所述边缘环电压控制电路和所述基板电压控制电路两者。

7.如权利要求1或权利要求5所述的设备,进一步包括:

第一成形DC脉冲电压源,所述第一成形DC脉冲电压源耦合到所述边缘环电压控制电路;以及

第二成形DC脉冲电压源,所述第二成形DC脉冲电压源耦合到所述基板电压控制电路。

8.如权利要求1或权利要求5所述的设备,其中所述边缘环电压控制电路和所述基板电压控制电路中的至少一者包括至少一个可变无源部件。

9.如权利要求8所述的设备,其中所述至少一个可变无源部件包括可变电容器,所述可变电容器耦合在至少一个成形DC脉冲电压源与所述边缘环电极和所述基板电极中的所述至少一者之间。

10.如权利要求8所述的设备,其中所述至少一个可变无源部件包括可变电感器,所述可变电感器耦合在至少一个成形DC脉冲电压源与所述边缘环电极和所述基板电极中的所述至少一者之间。

11.如权利要求8所述的设备,其中所述至少一个可变无源部件包括与电容器串联的可变电感器,所述与电容器串联的可变电感器耦合在至少一个成形DC脉冲电压源与所述边缘环电极和所述基板电极中的所述至少一者之间。

12.如权利要求11所述的设备,其中所述电容器是可变电容器。

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