[发明专利]一种改善异质结太阳能电池性能的方法在审
| 申请号: | 201980070320.5 | 申请日: | 2019-10-24 |
| 公开(公告)号: | CN112930583A | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
| 发明(设计)人: | 布雷特·哈勒姆;马修·赖特;文勇·金;丹妮·陈 | 申请(专利权)人: | 新南创新私人有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/04 | 分类号: | H01L21/04;H01L31/072;H01L31/18;H01L31/20;H01L51/42 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
| 地址: | 澳大利亚新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 改善 异质结 太阳能电池 性能 方法 | ||
1.一种改善n型异质结太阳能电池性能的方法,包括:
提供异质结太阳能电池;所述太阳能电池具有n型硅基板和多个金属触点,所述n型硅基板仅掺杂n型掺杂剂,浓度大于1×1014cm-3;
在200℃至300℃之间的温度下用光照射所述太阳能电池的表面部分少于5分钟,所述光具有至少为2kW/m2的强度和一波长,使得所述光被所述表面部分吸收并在所述太阳能电池中产生电子-空穴对;
其中照射所述太阳能电池的表面部分的步骤使少于0.5kWh/m2的能量转移到所述表面部分,并且在光照期间所述表面部分的温度以至少10℃/s的速率升高一段时间。
2.根据权利要求1所述的方法,其中用光照射所述太阳能电池的表面部分的步骤使得在光照期间所述太阳能电池内的过量载流子浓度为至少1×1016cm-3。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述光的波长使得所述多个金属触点中的吸收高于所述硅基板中的吸收。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,还包括改变光照强度以调节所述装置的温度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中照射所述太阳能电池的表面部分的步骤使得通过使用较高的光照强度将暴露部分迅速加热至预定温度。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于5kW/m2。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于20kW/m2。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于5kW/m2时间小于6分钟。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于20kW/m2时间小于90秒。
10.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于100kW/m2时间小于18秒。
11.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于200kW/m2时间小于9秒。
12.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述光照强度高于50kW/m2时间在0.1秒至9秒之间。
13.根据权利要求1至13中任一项所述的方法,其中所述光的波长在700nm至1100nm之间。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法,其中所述光的波长在800nm至1000nm之间。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的方法,还包括:在光照期间,当光照强度高于4kW/m2时,主动冷却所述太阳能电池。
16.根据权利要求1至14中任一项所述的方法,还包括:以至少10℃/s的冷却速率将所述太阳能电池从在200℃至300℃范围内的温度主动冷却至至少低50℃的温度。
17.根据权利要求16所述的方法,其中所述太阳能电池以至少20℃/s的冷却速率冷却。
18.根据权利要求16或17中任一项所述的方法,其中将所述太阳能电池冷却至低于150℃的温度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





