[发明专利]叠层体

说明书

一种叠层体，其在基材的至少一侧具有A层，上述A层包含选自周期表的第IIA、IIIB、IVB、VB、IIB、IIIA和IVA族的元素中的至少2种元素、以及氧，上述A层表面的通过原子力显微镜(AFM)算出的算术平均粗糙度Ra为5.0nm以下。提供低成本并且即使为简单的构成也具有高度的阻气性的叠层体。

技术领域

本发明涉及需要高阻气性的食品、药品的包装材料、太阳能电池、电子纸、有机电致发光(EL)显示器等电子部件的材料所使用的叠层体。

背景技术

在膜基材的表面利用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等物理气相生长法(PVD法)、或等离子体化学气相生长法、热化学气相生长法、光化学气相生长法等化学气相生长法(CVD法)等，形成无机物(包含无机氧化物)的无机层而成的阻气性膜作为需要阻断水蒸气、氧等各种气体的食品、药品等的包装材料和电子纸、太阳能电池等的电子器件构件而使用，在这些构件中，要求以水蒸气透过率计为5.0×10^-2g/m²·24hr·atm以下的高阻气性。

作为满足高阻气性的方法之一，提出了通过使有机层与无机层交替地多层叠层从而通过孔填埋效果来防止缺陷产生的阻气性膜(专利文献1)、通过使用以ZnO和SiO₂作为主成分的靶进行溅射从而将ZnO-SiO₂系那样的复合氧化物膜形成在膜基材上的简便的膜构成的阻气性膜(专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-324406号公报

专利文献2：日本特开2013-147710号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，虽然如专利文献1那样通过使有机层与无机层交替地多层叠层，能够表现高阻挡性，但由于进行叠层因此具有工序数变多、成为高成本的问题。此外，如专利文献2那样通过溅射而形成复合氧化物的叠层体虽然与专利文献1相比可以以低成本制造，但是在制造方法的性质上，成膜速度的高速化具有限度等，因此难以低成本化。

本发明鉴于这样的现有技术的背景，提供低成本并且即使为简单的构成也具有高度的阻气性的叠层体。

用于解决课题的方法

本发明为了解决这样的课题，采用以下那样的手段。即以下。

(1)一种叠层体，其在基材的至少一侧具有A层，上述A层包含选自周期表的第IIA、IIIB、IVB、VB、IIB、IIIA和IVA族的元素中的至少2种元素、以及氧，上述A层表面的通过原子力显微镜(AFM)算出的算术平均粗糙度Ra为5.0nm以下。

(2)一种叠层体，其在基材的至少一侧具有A层，上述A层包含选自周期表的第IIA、IIIB、IVB、VB、IIB、IIIA和IVA族的元素中的至少2种元素、以及氧，上述A层的通过正电子束法测定的平均寿命为0.935ns以下。

发明的效果

根据本发明，可以以低成本提供具有对水蒸气的高度的阻气性的叠层体。

附图说明

图1为显示本发明的叠层体的一例的截面图。

图2为显示本发明的叠层体的另一例的截面图。

图3为示意性示出用于制造本发明的叠层体的卷绕式电子射线蒸镀装置的概略图。

图4为从上部示意性示出用于制造本发明的叠层体的材料配置的图。

图5为从侧面示意性示出用于制造本发明的叠层体的材料配置的图。

具体实施方式

以下说明本发明的详细内容。