[发明专利]PRMT5抑制剂

权利要求书

1.一种式I的化合物

或其药学上可接受的盐，其中

X为CH₂或O；

Y为CH₂、NH或O；

Z¹为CR⁴或N；

Z²、Z³、Z⁴和Z⁵独立地选自N或CR⁹；

A¹为CH或N；

A²为CR¹⁰或N；

A³为CH或N；

A⁴为CR⁸或N；

R¹、R²和R⁷为：

i)R¹为H、CCH或任选地被1至2个卤素取代的C_1-3烷基，R²为H、卤素、OH、CH₃、NH₂、NHCH₃、CH₂OH、CH₂F或CHF₂，R⁷为H，条件是R¹和R²不能同时为H；或

ii)R¹和R⁷一起形成任选地被1至3个卤素取代的五元碳环或包含一个O原子的五元杂环烷基环，R²为H、OH、CH₃、CHF₂或F；

R³为H、卤素、NH₂、NHCH₃、CN、OH、OCH₃、任选地被1至3个卤素或OH取代的C_1-4烷基或任选地被1至3个卤素或OH取代的C_3-5环烷基；

R⁵为H、NH₂或NHR⁶；当存在时，R⁴为H、卤素、CH₃、CHF₂或CF₃；或者

R⁴和R⁵与它们所连接的碳原子一起结合形成包含一个N原子的5元杂环烷基，其中所述杂环烷基任选地被1至4个独立地选自卤素、CH₃、CF₃或CF₂H的取代基取代；

当存在时，R⁶为CH₃、C₂H₅、CH₂CH₂CH₃、CH(CH₃)₂、CH₂CHF₂、CH₂CF₃或CH₂-环丙基；

当存在时，R⁸为H、卤素、任选地被1至3个卤素取代的C_1-4烷基、任选地被1至3个卤素取代的C_3-5环烷基或任选地被1至3个卤素取代的芳基；

当存在时，每个R⁹独立地选自H或卤素；和

当存在时，R¹⁰为H、C_1-6烷基、NH₂或卤素。