[发明专利]Mn-Nb-W-Cu-O系溅射靶及其制备方法在审
| 申请号: | 201980058203.7 | 申请日: | 2019-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN112601834A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
| 发明(设计)人: | 加守雄一 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C04B35/495 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 童春媛;杨戬 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | mn nb cu 溅射 及其 制备 方法 | ||
1.溅射靶,所述溅射靶是在成分组成中含有Mn、Nb、W、Cu和O的Mn-Nb-W-Cu-O系溅射靶,
相对密度为90%以上,并且含有MnNb2O3.67的结晶相。
2.根据权利要求1所述的溅射靶,其中,相对于合计100原子%的除O以外的构成元素,Nb和W合计的比例低于60原子%。
3.根据权利要求1或2所述的溅射靶,其中,在所述成分组成中还含有Zn。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的溅射靶,其中,在所述成分组成中还含有选自Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Cr和Tb的至少1种元素。
5.根据权利要求4所述的溅射靶,其中,相对于合计100原子%的除O以外的构成元素,所述选自Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Cr和Tb的至少1种元素的合计含有率为8原子%~70原子%。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的Mn-Nb-W-Cu-O系溅射靶的制备方法,所述制备方法包括:
混合工序,其中,将含有含锰粉末、金属铌粉末、含钨粉末和含铜粉末的混合粉末湿式混合10小时以上;和
烧结工序,其中,在所述混合工序之后对所述混合粉末施加550kgf/cm2以上的压力并在700℃~900℃的温度下进行烧结。
7.根据权利要求6所示的制备方法,其中,所述含锰粉末为锰氧化物粉末,所述含钨粉末为金属钨粉末,所述含铜粉末为金属铜粉末。
8.根据权利要求6或7所述的制备方法,其中,所述混合粉末还含有锌氧化物粉末。
9.根据权利要求6~8中任一项所述的制备方法,其中,所述混合粉末还含有由选自Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Cr和Tb的至少1种元素的单质或化合物构成的粉末。
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