[发明专利]水性口腔护理溶液、方法、试剂盒和具有来源于口腔护理溶液的涂层的牙齿表面

权利要求书

1.一种水性口腔护理溶液，所述水性口腔护理溶液包含：

银阳离子；

由硫氰酸根源提供的硫氰酸根阴离子，所述硫氰酸根源包括Ca(SCN)₂；

氟阴离子；以及

基于所述溶液的总重量计至多57重量％的量的水；

其中银离子与硫氰酸根离子的摩尔比为至多0.40:1。

2.根据权利要求1所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含：

12.5重量％至20.2重量％的银阳离子；以及

1.0重量％至6.0重量％的氟阴离子；

其中的重量百分比基于所述溶液的总重量；

其中银离子与硫氰酸根离子的摩尔比为至少0.10:1并且至多0.40:1；并且

其中所述口腔护理溶液在与附加的水或唾液接触时形成沉淀。

3.根据权利要求2所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含：

12.5重量％至20.2重量％的银阳离子；以及

2.2重量％至3.5重量％的氟阴离子。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含1重量％至55重量％的Ca(SCN)₂。

5.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含银阳离子源，所述银阳离子源选自氟化银、氯化银、硝酸银、氟化氨银以及它们的组合物。

6.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含氟阴离子源，所述氟阴离子源选自氟化银、氟化氨银、氟化钠、氟化铵、氟化钾、氟化胺以及它们的组合物。

7.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含第二硫氰酸根阴离子源，所述第二硫氰酸根阴离子源选自硫氰酸铵、硫氰酸钠、硫氰酸钾、硫氰酸胍以及它们的组合物。

8.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液还包含增稠剂。

9.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液具有5.5至9的pH。

10.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液包含少于5重量％的有机溶剂。

11.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，基于所述溶液的总重量计，所述口腔护理溶液包含至少20重量％的水。

12.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液还包含一种或多种活性剂。

13.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液还包含钙阳离子。

14.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液还包含表面活性剂。

15.根据前述权利要求中任一项所述的口腔护理溶液，所述口腔护理溶液不沾染牙齿。

16.一种向患者的牙齿表面提供氟化物的方法，所述方法包括向所述患者的牙齿表面施用根据前述权利要求中任一项所述的水性口腔护理溶液。

17.一种在对降低龋齿发生率有需要的患者中降低龋齿的发生率的方法，所述方法包括向所述患者的牙齿表面施用根据权利要求1至15中任一项所述的水性口腔护理溶液。